ケミカルフィルタ - 企業ランキング(全14社)
更新日： 集計期間:2026年09月02日〜2026年09月29日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
|---|---|---|---|
| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【仕様】 ○供給エア： 圧縮空気、ＣＤＡ（クリーンドライエア）、Ｎ２、その他不活性ガス ○捕集対象： 酸性・塩基性・有機ガス ○捕集方式： 物理および化学吸着 ○フィルター本体ケース材質： ステンレススチール（SUS304） ○最大使用圧力： 150psi/10bar （C)N... | 【用途】 半導体製造・各種開発実験/ 評価試験、レーザー加工機・光学系機器の保護といった、 より高純度のＣＤＡ（クリーンドライエア）、不活性ガス、圧縮空気の供給が必要とされるプロセス | ||
| 【仕様】 ○供給エア： 圧縮空気、ＣＤＡ（クリーンドライエア）、Ｎ２、その他不活性ガス ○捕集対象： 酸性・塩基性・有機ガス ○捕集方式： 物理および化学吸着 ○フィルター本体ケース材質： ステンレススチール（SUS304） ○最大使用圧力： 150psi/10bar （C)N... | 【用途】 半導体製造・各種開発実験/ 評価試験、レーザー加工機・光学系機器の保護といった、 より高純度のＣＤＡ（クリーンドライエア）、不活性ガス、圧縮空気の供給が必要とされるプロセス | ||
| 【ラインアップ】 ○P512612 ・適用フィルターシステム：リソガード-12 ・概略寸法（幅×高さ×奥行き）：555 x 430 x 188 mm ・設定風量 ※：433 ㎥/hr ・最大圧力損失 ※：265 Pa ・概算重量：20kg ○P510610 ・適用フィルターシステ... | 【用途】 ケミカル汚染物除去フィルターとして 半導体製造装置を始め、超清浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中のさまざまな汚染物質の除去に適切です。 | ||
|
---
--- |
--- | --- | |
日本ドナルドソン株式会社
-
- 代表製品
-
インラインケミカルフィルター「リソガードPOUフィルター」
- 概要
- 【仕様】 ○供給エア： 圧縮空気、ＣＤＡ（クリーンドライエア）、Ｎ２、その他不活性ガス ○捕集対象： 酸性・塩基性・有機ガス ○捕集方式： 物理および化学吸着 ○フィルター本体ケース材質： ステンレススチール（SUS304） ○最大使用圧力： 150psi/10bar （C)N...
- 用途/実績例
- 【用途】 半導体製造・各種開発実験/ 評価試験、レーザー加工機・光学系機器の保護といった、 より高純度のＣＤＡ（クリーンドライエア）、不活性ガス、圧縮空気の供給が必要とされるプロセス
インラインケミカルフィルター「リソガードPOUフィルター」
- 概要
- 【仕様】 ○供給エア： 圧縮空気、ＣＤＡ（クリーンドライエア）、Ｎ２、その他不活性ガス ○捕集対象： 酸性・塩基性・有機ガス ○捕集方式： 物理および化学吸着 ○フィルター本体ケース材質： ステンレススチール（SUS304） ○最大使用圧力： 150psi/10bar （C)N...
- 用途/実績例
- 【用途】 半導体製造・各種開発実験/ 評価試験、レーザー加工機・光学系機器の保護といった、 より高純度のＣＤＡ（クリーンドライエア）、不活性ガス、圧縮空気の供給が必要とされるプロセス
ケミカル汚染物除去フィルター「リソガードBSMmax」
- 概要
- 【ラインアップ】 ○P512612 ・適用フィルターシステム：リソガード-12 ・概略寸法（幅×高さ×奥行き）：555 x 430 x 188 mm ・設定風量 ※：433 ㎥/hr ・最大圧力損失 ※：265 Pa ・概算重量：20kg ○P510610 ・適用フィルターシステ...
- 用途/実績例
- 【用途】 ケミカル汚染物除去フィルターとして 半導体製造装置を始め、超清浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中のさまざまな汚染物質の除去に適切です。
-
日本ドナルドソン株式会社
すべてを閲覧するには会員登録（無料）が必要です。
すでに会員の方はこちら
