ソフト - Company Ranking(45 companyies in total)
Last Updated: Aggregation Period:2025年08月20日〜2025年09月16日
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Display Company Information
Company Name | Featured Products | ||
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Product Image, Product Name, Price Range | overview | Application/Performance example | |
【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス分布などが短時間で評価が可能 | 【二周波容量結合型プラズマ】 ・ 高密度プラズマを得るための電圧などの最適化 ・ チャンバー壁の損傷 ・ 外部回路モデルを用いた電力の最適化 - 現実の装置に沿った電圧を電極板に印加することが可能 - 印加電圧の波形がなめらかで比較的現実的な電圧でシミュレーションが可能 - 無理な電圧を掛けないために計算が比較的安定 【DC マグネトロンスパッタリング】 ・ 磁場分布依存のエロージョンの均一性 ・ スパッタされた材料の基板への吸着分布 【パルス電圧マグネトロンスパッタリング】 ・ 効率良く材料をスパッタさせるためのパルス電圧の印加時間などの最適化 【イオン注入】 ・ Sus がエロージョン分布に及ぼす影響 【電極板の印加電圧の時間推移】 ・ 電子密度やイオン速度分布など,実験測定では見ること困難な 物理量を見ることが可能 ・ 電子密度やイオン速度分布を調べることで,膜の均一性やチャンバー壁の損 傷を調べることが可能 ・ 計算条件を変更して,低電力で高密度プラズマ発生の最適化が可能 | ||
(1)計算メッシュの自動生成! 複雑な流路に対しても、簡単なボタン操作で計算メッシュの自動生成が可能です。 また、回転/容積変化を伴うポンプ室に対しては、専用のメッシュ作成モジュールを用いることで、精度の高い計算メッシュを自動生成します。 面倒な作業要らずで、高精度のメッシュの移動/回転/変形を自動実行することが可能です。 (2)様々なバルブやギヤポンプの流体解析が可能! Simerics MP+は様々なバルブやポンプの自動メッシュ作成機能を持っているので、様々なバルブやポンプの計算を容易に行うことが可能で、バルブを含んだ流路の計算を行うことも出来、連成解析も可能です。 (3)エアレーション/キャビテーションをより正確にモデル化! 精度の高いキャビテーションモデルが含まれており、非凝縮性ガスの膨張やキャビテーションによる蒸気の発生を予測することが可能です。 (4)自由表面流れの計算 新機能として自由表面流れの計算が可能になりました。 ギヤボックスの中のオイルのかきあげや、ポンプ始動時のオイルパンからのオイルの吸い込みの解析等も可能になりました。 | Simerics MP+は、日本国内では自動車メーカー様や自動車関連部品メーカー様を中心にご利用頂き、様々なバルブ、自動車のATやCVTに使われるオイルポンプやエンジンオイルポンプ等、数々の実績がございます。 また、全世界では自動車業界は勿論、幅広い導入実績がございます。 開発元による全世界での実績例 http://www.simerics.com/testimonials/ 海外ではもちろん、国内の既に流体解析ソフトウェアを複数購入済みの企業様でも、バルブ解析や、ギヤポンプやベーンポンプ等の、容積型ポンプの解析における使い勝手の良さ、精度向上、計算時間短縮を目的に購入頂く事例が多数ございます。 KYB株式会社様発行のKYB技報 No. 53 OCT. 2016にて、『Simerics MP+』を用いたベーンポンプの流体解析事例が掲載されました。 【CFD解析によるベーンポンプの特性予測】 https://www.kyb.co.jp/technical_report/data/no53j/03_technology_explanation_01.pdf | ||
【特長】 ●粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで,真空チャンバーを 用いる実験や装置開発に有用 ●CVD のような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ●非構造メッシュを採用しているので,実際の装置の形状そのままを 計算することが可能 ●高い並列効率から,大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ●粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が 有っても,必ず収束解を得られます ●充実した技術サポートにより,シミュレーションが始めての方や実験で 忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ●その他機能や詳細については、カタログをご覧ください。 | ◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの,膜への影響 | ||
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- Featured Products
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事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析
- overview
- 【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガス 分布を求めるもので、DSMC法を用いて短時間でガス流れを評価できます ●スパッタ粒子モジュールはマグネトロンスパッタ装置などにおいて、 ターゲットからスパッタされた原子のプラズマおよび中性ガス中の挙動を 求めるもので、対向基板上へのフラックス分布などが短時間で評価が可能
- Application/Performance example
- 【二周波容量結合型プラズマ】 ・ 高密度プラズマを得るための電圧などの最適化 ・ チャンバー壁の損傷 ・ 外部回路モデルを用いた電力の最適化 - 現実の装置に沿った電圧を電極板に印加することが可能 - 印加電圧の波形がなめらかで比較的現実的な電圧でシミュレーションが可能 - 無理な電圧を掛けないために計算が比較的安定 【DC マグネトロンスパッタリング】 ・ 磁場分布依存のエロージョンの均一性 ・ スパッタされた材料の基板への吸着分布 【パルス電圧マグネトロンスパッタリング】 ・ 効率良く材料をスパッタさせるためのパルス電圧の印加時間などの最適化 【イオン注入】 ・ Sus がエロージョン分布に及ぼす影響 【電極板の印加電圧の時間推移】 ・ 電子密度やイオン速度分布など,実験測定では見ること困難な 物理量を見ることが可能 ・ 電子密度やイオン速度分布を調べることで,膜の均一性やチャンバー壁の損 傷を調べることが可能 ・ 計算条件を変更して,低電力で高密度プラズマ発生の最適化が可能
バルブに強い流体解析ソフトウェア『Simerics MP+』
- overview
- (1)計算メッシュの自動生成! 複雑な流路に対しても、簡単なボタン操作で計算メッシュの自動生成が可能です。 また、回転/容積変化を伴うポンプ室に対しては、専用のメッシュ作成モジュールを用いることで、精度の高い計算メッシュを自動生成します。 面倒な作業要らずで、高精度のメッシュの移動/回転/変形を自動実行することが可能です。 (2)様々なバルブやギヤポンプの流体解析が可能! Simerics MP+は様々なバルブやポンプの自動メッシュ作成機能を持っているので、様々なバルブやポンプの計算を容易に行うことが可能で、バルブを含んだ流路の計算を行うことも出来、連成解析も可能です。 (3)エアレーション/キャビテーションをより正確にモデル化! 精度の高いキャビテーションモデルが含まれており、非凝縮性ガスの膨張やキャビテーションによる蒸気の発生を予測することが可能です。 (4)自由表面流れの計算 新機能として自由表面流れの計算が可能になりました。 ギヤボックスの中のオイルのかきあげや、ポンプ始動時のオイルパンからのオイルの吸い込みの解析等も可能になりました。
- Application/Performance example
- Simerics MP+は、日本国内では自動車メーカー様や自動車関連部品メーカー様を中心にご利用頂き、様々なバルブ、自動車のATやCVTに使われるオイルポンプやエンジンオイルポンプ等、数々の実績がございます。 また、全世界では自動車業界は勿論、幅広い導入実績がございます。 開発元による全世界での実績例 http://www.simerics.com/testimonials/ 海外ではもちろん、国内の既に流体解析ソフトウェアを複数購入済みの企業様でも、バルブ解析や、ギヤポンプやベーンポンプ等の、容積型ポンプの解析における使い勝手の良さ、精度向上、計算時間短縮を目的に購入頂く事例が多数ございます。 KYB株式会社様発行のKYB技報 No. 53 OCT. 2016にて、『Simerics MP+』を用いたベーンポンプの流体解析事例が掲載されました。 【CFD解析によるベーンポンプの特性予測】 https://www.kyb.co.jp/technical_report/data/no53j/03_technology_explanation_01.pdf
真空装置向け 希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』
- overview
- 【特長】 ●粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで,真空チャンバーを 用いる実験や装置開発に有用 ●CVD のような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ●非構造メッシュを採用しているので,実際の装置の形状そのままを 計算することが可能 ●高い並列効率から,大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ●粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が 有っても,必ず収束解を得られます ●充実した技術サポートにより,シミュレーションが始めての方や実験で 忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ●その他機能や詳細については、カタログをご覧ください。
- Application/Performance example
- ◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの,膜への影響
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