バッチ炉 - 企業ランキング(全5社)
更新日: 集計期間:2026年05月27日〜2026年06月23日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【仕様】 ○温度制御範囲:室温~300℃ ○ワークサイズ:最大430×270mm ○昇温スピード:20℃/min ○圧力範囲:-100KPa(真空)~0.02MPa(N2ガス充填時) ○酸素濃度計、ピラニ真空計、温度モニター用ポート | |||
| 【仕様】 ○温度制御範囲:室温~400℃ ○ワークサイズ:最大200×200mm ○チャンバー高さ:200mm ○昇温スピード:100℃/min ○圧力範囲:-100KPa(真空)~0.1MPa(N2ガス充填時) | |||
| 【特徴】 ○温度制御範囲:室温~200℃ ○ワークサイズ:最大200×200mm ○昇温スピード:100℃/min ○圧力範囲:-100KPa(真空) ○UVランプ出力:メタルハライド120W/cm | 真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発 | ||
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- 代表製品
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半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」
- 概要
- 【仕様】 ○温度制御範囲:室温~300℃ ○ワークサイズ:最大430×270mm ○昇温スピード:20℃/min ○圧力範囲:-100KPa(真空)~0.02MPa(N2ガス充填時) ○酸素濃度計、ピラニ真空計、温度モニター用ポート
- 用途/実績例
真空はんだ付けバッチ炉 「PH-224-S型」
- 概要
- 【仕様】 ○温度制御範囲:室温~400℃ ○ワークサイズ:最大200×200mm ○チャンバー高さ:200mm ○昇温スピード:100℃/min ○圧力範囲:-100KPa(真空)~0.1MPa(N2ガス充填時)
- 用途/実績例
真空UV照射バッチ炉 PU-201-V型
- 概要
- 【特徴】 ○温度制御範囲:室温~200℃ ○ワークサイズ:最大200×200mm ○昇温スピード:100℃/min ○圧力範囲:-100KPa(真空) ○UVランプ出力:メタルハライド120W/cm
- 用途/実績例
- 真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発
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株式会社MSAファクトリー