マスク洗浄機のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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マスク洗浄機 - 企業ランキング(全5社)

更新日: 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
■主な特長 ・ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。 ・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。 ・乾燥は、ホット純水乾燥。 フォトマスク:半導体用、液晶用、有機EL用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可
■主な特長 ・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※ ・マスクに付着したレジストを簡単に除去 ・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去 ・マスクは消耗品から永久使用へ ・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 ・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 ・高価なリムーバーや現像液なども不要 ■デザインルールL/S(Line and Space )1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適 FPD(フラットパネルディスプレイ)、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。
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  1. 代表製品
    フォトマスク洗浄装置|簡易型マスク洗浄装置TWC-302フォトマスク洗浄装置|簡易型マスク洗浄装置TWC-302
    概要
    ■主な特長 ・ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。 ・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。 ・乾燥は、ホット純水乾燥。
    用途/実績例
    フォトマスク:半導体用、液晶用、有機EL用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可
    マスク洗浄機|全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」マスク洗浄機|全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」
    概要
    ■主な特長 ・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※ ・マスクに付着したレジストを簡単に除去 ・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去 ・マスクは消耗品から永久使用へ ・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 ・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 ・高価なリムーバーや現像液なども不要
    用途/実績例
    ■デザインルールL/S(Line and Space )1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適 FPD(フラットパネルディスプレイ)、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。