マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去
TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。 本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。 特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。 オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。 危険な薬品に曝される事も無く安全性を高め、露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献いたします。
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基本情報
■主な特長 ・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※ ・マスクに付着したレジストを簡単に除去 ・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去 ・マスクは消耗品から永久使用へ ・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 ・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 ・高価なリムーバーや現像液なども不要
価格帯
納期
用途／実績例
■デザインルールL/S（Line and Space ）1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適 FPD（フラットパネルディスプレイ）、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。
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企業情報
株式会社テクノビジョンは、1987年9月創業以来、洗浄技術、組立技術をコアーに自社製品の開発、製造、輸出入業務に取り組んでおります。 今日のハイテク産業の中でお客様のニーズにお応えし、お客様の立場に立った視野で技術、製品、及びサービスの提供を目指していく所存でございます。
