原子層堆積装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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原子層堆積装置 - 企業ランキング(全5社)

更新日: 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
特長 ・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適 ・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単 ・オプションにて簡単にプラズマユニットの取り付けが可能 成膜材料 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZnO、TiN、 Pt、 Ruなど 基板 4~8インチ、高さ約25mmまでの構造物 粉体、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能 チャンネル数 最多8種類のプレカーサ装備が可能 チャンバー温度 最高300℃(オプション450℃) オプション オゾン発生器、 リモートプラズマ装置、 紛体コーティング治具(量子ドットやナノパーティクルへコーティング)、 Load Lockもございます。 幅広い成膜材料に対応 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZrO2、TiN、 Pt、 Ruなど
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  1. 代表製品
    卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置 卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積(ALD)装置
    概要
    特長 ・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適 ・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単 ・オプションにて簡単にプラズマユニットの取り付けが可能 成膜材料 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZnO、TiN、 Pt、 Ruなど 基板 4~8インチ、高さ約25mmまでの構造物 粉体、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能 チャンネル数 最多8種類のプレカーサ装備が可能 チャンバー温度 最高300℃(オプション450℃) オプション オゾン発生器、 リモートプラズマ装置、 紛体コーティング治具(量子ドットやナノパーティクルへコーティング)、 Load Lockもございます。
    用途/実績例
    幅広い成膜材料に対応 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZrO2、TiN、 Pt、 Ruなど