Arradiance社製卓上型ALD装置 卓上型ながらプラズマユニットも装備可能 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuなど成膜が可能
テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度 低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き 試料ステージは直径200mm基板まで選択可能 450℃加熱ステージも選択可能 Arradiance GEMFlowソフトウェアは、 扱いやすく、成膜レシピの作成も簡単に行えます。 温度、ガス流量、高速ALDバルブ、高周波(RF)パワー、 真空隔離など、すべての主要な動作パラメータを制御。 診断システムとログにより、操作中のすべてのシステム・パラメータが追跡可能 RGIP（Reactor Gas Injection Protocol）について ガスポート監視インターロック機能を備えています。
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基本情報
特長 ・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適 ・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単 ・オプションにて簡単にプラズマユニットの取り付けが可能 成膜材料 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZnO、TiN、 Pt、 Ruなど 詳細はお問い合わせください。 基板 4～8インチ、高さ約25mmまでの構造物 粉体、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能 チャンネル数 最多8種類のプレカーサ装備が可能 チャンバー温度 最高300℃（オプション450℃） オプション オゾン発生器、 リモートプラズマ装置、 紛体コーティング治具（量子ドットやナノパーティクルへコーティング）、 Load Lockもございます。 詳細はお問い合わせください。 （成膜サービス（有償）も実施しております。詳細はお問い合わせください。）
価格帯
納期
用途／実績例
幅広い成膜材料に対応 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZrO2、TiN、 Pt、 Ruなど ※詳細成膜材料については、弊社営業部までお問い合わせください。
詳細情報
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卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置 (ALD/PEALD) GEMStar XTシリーズ テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。 直径200mm、高さ約25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。プラズマ発生ユニット等多彩なオプションを用意。
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企業情報
当社は技術商社として、様々な造形方式の３Dプリンタ装置、各種半導体製造装置の販売と、アフター・メンテナンス・サービスで長年培った経験を活かし、御客様へアプリケーション・サポートなどのトータル・ソリューションをご提供して参ります。 ３Dプリンタ装置では、電子ビーム・パウダベッド／レーザ・パウダベッド／レーザ・デポジションなど金属積層造形の主だった3種類の方式を取り扱っており、お客様のアプリケーションに適したご提案が可能です。 材料についても金属３Dプリンタ用高硬度、高耐摩耗特性を備えた金属パウダの販売も行っております。 さらに半導体製造装置関連の分野では、原子層堆積装置 (ALD: Atomic Layer Deposition) などもお取扱いをしております。