大気圧プラズマ装置 - 企業ランキング(全45社)
更新日: 集計期間:2026年02月25日〜2026年03月24日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【特徴】 ○枚葉式のスプレー洗浄装置 ○被洗浄物を試料台に置き、スタートSWをON →試料台は回転を開始 →同時にノズルアームが洗浄物の半径をスイング →2流体ノズルより高圧純水をスプレー ○メガソニックによる仕上げ洗浄実行 ○スピン乾燥実行 【仕様】 ○外... | |||
加圧RTA装置
応相談 |
【仕様】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■反応ガス:O2 、N2 、 H2O(オプション) ■基板加熱温度:最高1000 ℃(基板表面) ■加熱源:ハロゲンランプ ■昇温レート:最大150 ℃/sec ■真空排気:DP ■制御操作 ・制御:PLC ・操作:... | 【用途】 ■半導体 ■MEMS ■電子部品 | |
有機EL用蒸着装置
応相談 |
【ラインアップ】 ■□650×550mm対応量産用セル評価装置 ■有機EL用Ag蒸発源 ■□100mm対応プラズマCVD室 ■□100mm対応透明電極用スパッタ室 | 【用途】 ■有機ELディスプレイ ■有機EL照明 | |
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- 代表製品
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枚葉式スピンスプレー洗浄装置 SRC-15001
- 概要
- 【特徴】 ○枚葉式のスプレー洗浄装置 ○被洗浄物を試料台に置き、スタートSWをON →試料台は回転を開始 →同時にノズルアームが洗浄物の半径をスイング →2流体ノズルより高圧純水をスプレー ○メガソニックによる仕上げ洗浄実行 ○スピン乾燥実行 【仕様】 ○外...
- 用途/実績例
加圧RTA装置
- 概要
- 【仕様】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■反応ガス:O2 、N2 、 H2O(オプション) ■基板加熱温度:最高1000 ℃(基板表面) ■加熱源:ハロゲンランプ ■昇温レート:最大150 ℃/sec ■真空排気:DP ■制御操作 ・制御:PLC ・操作:...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■半導体 ■MEMS ■電子部品
有機EL用蒸着装置
- 概要
- 【ラインアップ】 ■□650×550mm対応量産用セル評価装置 ■有機EL用Ag蒸発源 ■□100mm対応プラズマCVD室 ■□100mm対応透明電極用スパッタ室
- 用途/実績例
- 【用途】 ■有機ELディスプレイ ■有機EL照明
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