薄膜形成装置 - 企業ランキング(全5社)

更新日：2026年03月18日集計期間:2026年02月18日〜2026年03月17日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
株式会社魁半導体	所在地京都府従業員数 10 事業内容・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売・工業用石英ガラスの販売、および加工・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売・堆積代行、エッチング代行・半導体プロセスのコンサルティング業務主要取引先	室温・大気圧でガラスコート「薄膜形成技術」【※技術資料進呈！】応相談		【分野】＜エレクトロニクス＞・半導体・・・・・前工程、後工程・基板・・・・・サブストレート、リードフレーム、めっき・電子部品・・・・・LED、MEMS、光学、センサー・ディスプレイ・・・・・有機EL、電子ペーパー、フィルムディスプレイ・太陽...
株式会社魁半導体		大気圧薄膜形成装置TEOS+O3-100 応相談	装置名：TEOS+O3-100 薄膜形成方法：ESC(Electro Spray Coating)法により薬液を噴霧、オゾン雰囲気下での重合反応によりガラス系薄膜を形成。 ESC法の特徴：高電圧を印加した注射針の先から塗料や薬液を供給することで、液体が電荷を持つ微細な液滴...	・ガラス代替ポリカへの保護膜形成・携帯電話の画面保護フィルム・親水コーティング・塗装、印刷、コーティングの前処理コーティング
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株式会社魁半導体

所在地

京都府

従業員数

10

事業内容

・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売・工業用石英ガラスの販売、および加工・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売・堆積代行、エッチング代行・半導体プロセスのコンサルティング業務

主要取引先

代表製品

室温・大気圧でガラスコート「薄膜形成技術」【※技術資料進呈！】

概要

用途/実績例

【分野】＜エレクトロニクス＞・半導体・・・・・前工程、後工程・基板・・・・・サブストレート、リードフレーム、めっき・電子部品・・・・・LED、MEMS、光学、センサー・ディスプレイ・・・・・有機EL、電子ペーパー、フィルムディスプレイ・太陽...

大気圧薄膜形成装置TEOS+O3-100

概要

装置名：TEOS+O3-100 薄膜形成方法：ESC(Electro Spray Coating)法により薬液を噴霧、オゾン雰囲気下での重合反応によりガラス系薄膜を形成。 ESC法の特徴：高電圧を印加した注射針の先から塗料や薬液を供給することで、液体が電荷を持つ微細な液滴...

用途/実績例

・ガラス代替ポリカへの保護膜形成・携帯電話の画面保護フィルム・親水コーティング・塗装、印刷、コーティングの前処理コーティング
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所在地

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事業内容

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