【2022年12月14日(水)～16日(金)】『SEMICON Japan 2022』出展のご案内

シリコンウエハーやCZ/FZインゴットなど！半導体向け取扱製品をご紹介いたします。

半導体向けシリコン素材の専門商社のトリニティーでは、 『半導体向け基板』をメインに取り扱っております。 シリコンウエハーをはじめ、大口径/小口径の「シリコンインゴット」や「加工Siウェハー」、ガラスウェハーや化合物ウエハーなど、様々な製品をラインアップしています。 【ラインアップ(抜粋)】 ■パーティクル管理品モニターウェハー ■各種ダミーウェハー ■膜付Siウェハ― ■化合物ウェハー ■特殊加工Siウェハー ■CZ/FZインゴット：小口径~大口径 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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• その他半導体

各種膜付ウェハ―を扱っております。 特殊加工ウェハーについてもご相談承ります。

取扱商品 ・各種膜付シリコンウエハー ・SOIウエハー ・厚み指定加工シリコンウエハー ・その他特殊加工シリコンウエハー

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2インチ～12インチ、多品種のシリコンウエーハを豊富な在庫で取り揃えており、小ロット、短納期、安定供給が可能です！

半導体向けシリコン素材の専門商社、トリニティーでは 多品種の『ダミーウェハ―』を取り扱っております。 お客様のご要望に合わせた加工もご対応させて頂いております。 詳細スペック、数量、その他品目についてもお気軽にご相談下さい。 【特長】 ■2インチ～12インチ ■P/N型 ■ベア品／膜品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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CZ/FZ、小口径（～φ300）のシリコンインゴットを取り揃えております。

半導体向けシリコン素材の専門商社のトリニティーでは、 小口径の『シリコンインゴット』を取り扱っております。 カットはグラインド/アズグローン/真円 受注生産も対応可能なため、詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 【仕様】 ■製造方式：CZ法/FZ法 ■口径：小口径 ■カット：グラインド/アズグローン/真円 ■型：P/N ■結晶軸：<100> <111>　 ■抵抗値：低抵抗～高抵抗 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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小ロット、短納期、安定供給が可能です！ 半導体向けのシリコンウェハーを各種、多数取り揃えております。

株式会社トリニティーではお客様のニーズに合わせ、各種半導体向けの シリコンウェーハをご提案させて頂きます。 前工程向け「モニターウェーハ」や、後工程向け「ダミーウェーハ」等をラインアップ。 それ以外にも各種膜付きウェーハ、高抵抗値ウェーハ、低抵抗値ウェーハ等各種仕様のウェーハをご提供可能でございます。 ウェーハの詳細スペック、数量、その他仕様についてもお気軽にお問合せ・ご相談下さい。 【特長】 ・2"、3"、4"、5"、6"、8"、12"各サイズにてお取扱いしております。 ・膜付、高/低抵抗値、P/N型等豊富な仕様の在庫を取り揃えております。 ※詳細につきましては、カタログをダウンロードして頂くかお問い合わせフォームよりご連絡下さいませ。

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CZ/FZ、各口径のシリコンインゴットを取り揃えております。

半導体向けシリコン素材の専門商社のトリニティーでは、 各種口径の『シリコンインゴット』を取り扱っております。 カットはグラインド/アズグローン/真円、口径は小口径～大口径。 受注生産も対応可能なため、詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 【仕様】 ■製造方式：CZ法/FZ法 ■口径：小口径～大口径 ■カット：グラインド/アズグローン/真円 ■型：P/N ■結晶軸：<100> <111>　 ■抵抗値：低抵抗～高抵抗 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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各サイズのパーティクル管理品を取り揃えております。 スペック等ご要望に応じてご提供させて頂きます。

【モニタ用ウェハー】 プロセスチェックやパーティクルチェックに使用します。日常のプロセスの結果を定期的にモニターし、問題があれば条件（レシピ）にフィードバックをかけます。また、装置内のパーティクルチェックを定期的に行う場合に行う場合にも使います。 【テスト用ウェハー】 先行で流すウェハーなどのテスト用。フルプロセスを流さず、問題になっている工程のみを流すケースもあります。 モニター用、テスト用でご使用するパーティクル管理品を各種取り扱っております。

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小ロットからの対応も可能！エピタキシャルウエハーを多数ラインアップ

半導体・太陽光発電向けシリコン素材の専門商社のトリニティーでは、 『エピタキシャルウエハー』を取り扱っております。 小ロットからの対応も致しますので、お気軽にお問い合わせ下さい。 【Reactor type/Reactor model】 ■Batch-Barrel/LPE 20615 ■Batch-Flat/LPE 3061D ■Single-Flat/ASM E2000 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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[講　師] 一般社団法人日本メタル経済研究所 特任アナリスト 志田 富雄 氏 [重点講義内容] レアアース（希土類）などのレアメタル（希少金属）から銅まで金属の重要性が増している。AI（人工知能）の普及を支えるデータセンターの建設ラッシュや再生可能エネルギー、EVの普及で需要が拡大する一方、資源ナショナリズムや環境問題で供給不安が高まっているからだ。 中東情勢の混乱をはじめとする地政学リスク、世界の分断も安定調達を困難にする。金属精錬の分野でも存在感を増した中国は輸出規制だけでなく、安値輸出で日米欧のサプラーチェーンを揺さぶる。米国は昨年改定した重要鉱物リストに銅など10種の金属を加えた。 日本企業はどう動くべきか。 [講演項目] １．時代で変化する「重要鉱物」 ２．AIもEVも未来の技術は金属頼み ３．鉱山開発で増す課題とコスト ４．中東情勢の緊迫など国際情勢の変化はどう影響？ ５．中国の揺さぶりは輸出規制だけではない 　～サプライチェーン構築への課題 ６．日本企業に「コスト増」を受け入れる覚悟はあるか ７．質疑応答／名刺交換

[講演項目] 一．日本の自動車・電池業界の現状と、今なぜ中国の最新動向（AI・SDV）を見るべきかの課題提起 沖為工作室合同会社 Founder&CEO 沖本 真也 氏 二．北京モーターショー視察報告と中国の最新自動車・技術動向解説 KAIST技術経営専門大学院 兼 職教授 朴 正圭 氏 三．パネルディスカッション 沖為工作室合同会社 Founder&CEO 沖本 真也 氏 KAIST技術経営専門大学院 兼 職教授 朴 正圭 氏

[講　師] 株式会社ビットメディア　代表取締役社長 株式会社MESH-X　代表取締役 高野　雅晴（たかの　まさはる）　氏 [重点講義内容] 生成AIの普及によりデータセンター（DC）の電力需要が急増し、電力（ワット）と通信（ビット）を一体的に整備する「ワット・ビット連携」が国家戦略として動き出している。 本講演では国内政策の最新動向を整理したうえで、電力系統の空き容量を最大活用する「ワークロードシフト」、分散拠点を仮想的に束ねる「バーチャル・ハイパースケーラー」、DCの次世代廃熱技術の新潮流、IOWN／APN等の次世代通信基盤といった鍵となる技術を解説する。 あわせて、米国フェニックスでのAIデータセンター電力柔軟化実証など海外事例を交え、AI時代の電力コスト急騰に企業がどう備えるべきか、デジタル・インフラの実装の方向性を示す。

イベント名：メッセナゴヤ2026 開催期間：2026年11月11日～2026年11月13日 場所：ポートメッセナゴヤ 大きなイベントには初出展です。 精一杯頑張りますのでご来場の際には弊社ブースもお立ち寄りください。

危険物施設におけるスマート保安、DX化推進の第一歩として欠かせない「危険区域の精緻なリスク評価」について解説。 新旧の評価方法の比較や最近の活用事例を交えながら、評価方法や実施上の留意点などを分かりやすくお伝えします。 皆さまのご参加をお待ちしております。