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2022/12/13

【2022/12/14(水)~16(金)】SEMICON JAPANに高機能フィルム、薬液濃度計、樹脂加工品、薬液用フィルターを出展します!

クラボウ(倉敷紡績株式会社) クラボウ(倉敷紡績株式会社)
クラボウは、東京ビッグサイトで開催される『SEMICON JAPAN』に出展いたします。 <出展商品> ・高機能フィルム 半導体工程テープ用では、昨年も出展している伸縮性や柔軟性を持つダイシングテープ向けフィルムに加えバックグラインドテープ向けの新商材を用意しています。 また、耐熱性と透明性を兼ね備えた特殊耐熱フィルム「エクスピーク」や高速通信用低誘電フィルム「オイディス」を出展します。 ・薬液濃度計 高い計測性能を持つ「ChemicAlyzer Ace-3」を始め、目的に応じた液体成分濃度計3モデルを紹介します。 参考出展として非接触でリアルタイムに液体成分を計測するIn-Situ液体成分モニタやIn-Situ小型サーモカメラなども出展します。 ・樹脂加工品 樹脂加工品では、熊本事業所が保有する総合対応力をご紹介。 切削加工、溶融成形などの樹脂加工技術、洗浄処理のパーツ洗浄技術、計測・評価など総合的なサポートをご紹介します。 ・薬液用フィルター クラボウグループの倉敷繊維加工から、微量金属イオン除去できる薬液用フィルター「クラングラフト」を出展します。
エクスピーク
エクスピーク
ChemicAlyzer Ace-3
ChemicAlyzer Ace-3
開催日時 2022年12月14日(水) ~ 2022年12月16日(金)
10:00 ~ 17:00
https://www.semiconjapan.org/jp
会場 会場:東京ビッグサイト 東展示棟4-5ホール 住所:135-0063 東京都江東区有明3丁目11-1 クラボウブース:4825
参加費 無料 ※完全事前登録制
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半導体製造工程用 高耐熱+高透明PEEKフィルム「EXPEEK」

200℃以上でも熱収縮率が低く、370nm以上の波長光を透過できる「耐熱性」と「透明性」を兼ね備えた特殊耐熱フィルム!

半導体製造工程ではウェハ保護用の耐熱テープが使用され、その基材として、主にPETなどポリエステル系フィルムが使用されています。 最近では半導体の新製品開発や、製造工程の最適化のため従来よりも高耐熱性(200℃以上)がテープに求められるケースが増えてきておりますが、ポリエステル系では耐熱性が足りず、また耐熱フィルムのポリイミドでは透明性が損なわれるという課題がありました。 クラボウでは、半導体製造における200℃以上の高温プロセスにも適用できる耐熱性と透明性を兼ね備えたPEEKフィルム「EXPEEK」を開発。製造工程の設計自由度アップに寄与できるため、半導体メーカーやテープメーカーから注目を集めているフィルムです。 【特長】 ■高温環境下でも寸法変化が非常に小さいフィルム ■高耐熱:200℃以上でも熱収縮率が低い、融点 343℃、Tg(TMA)320℃ ■高透明:全光線透過率83%、UVは370nm以上から透過 ■低吸水性:0.07% ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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特殊耐熱フィルム『オイディス/Oidys』

200℃超でも使用可能な耐熱ポリスチレン!一味違った特殊な耐熱フィルムのご紹介

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液体成分濃度計『ChemicAlyzerシリーズ Ace-3』

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『ChemicAlyzerシリーズ Ace-3』は、光の吸収原理を応用した、 インライン設計による連続測定を実現した液体成分用濃度計です。 赤外式液体成分濃度計のパイオニアとして事業を開始した1990年以降、 豊富なノウハウと技術を武器に、進化し続ける半導体デバイスの 製造プロセスにおいて、"計測ニーズに呼応"することで品質や 薬液濃度管理を支えてきました。 これからも先端プロセスや特殊薬液にフレキシブルに対応し、高精度な 薬液濃度測定を通して、"さらに一歩先の計測ニーズに呼応"することで 製造プロセスの最適化に貢献し続けていきます。 【特長】 ■計測ニーズに呼応するハイレベルな計測性能 ■1台で最大8薬液種の測定が可能なマルチ検量線対応 ■最大4成分の同時濃度計測が可能でいたような薬液に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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液体成分濃度計『ChemicAlyzerシリーズ Pro-2』

人気のインライン型ロングセラー標準機!保証付きの高い計測性能でプロセス薬液の濃度管理をサポート

『ChemicAlyzerシリーズ Pro-2』は、光の吸収原理を応用した、 インライン設計による連続測定を実現した液体成分用濃度計です。 赤外式液体成分濃度計のパイオニアとして事業を開始した1990年以降、 豊富なノウハウと技術を武器に、進化し続ける半導体デバイスの 製造プロセスにおいて、"計測ニーズに呼応"することで品質や 薬液濃度管理を支えてきました。 これからも先端プロセスや特殊薬液にフレキシブルに対応し、高精度な 薬液濃度測定を通して、"さらに一歩先の計測ニーズに呼応"することで 製造プロセスの最適化に貢献し続けていきます。 【特長】 ■測定部とデータ処理部が一体化しコンパクト(当社従来品比) ■簡略化されたボタンでどなたでも操作が容易 ■コネクタ類を一か所に集め、前面1方向で全ての操作が行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【セミナー】会議で一目置かれる人の言語化は、何が違うのか

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[講 師] 株式会社電通 コピーライター 荒木 俊哉 氏 [重点講義内容] 「会議でうまく発言できない」「自分の意見が浅いと思われていないか」そう悩むビジネスパーソンは少なくありません。しかし、人を動かす言葉に、難しい表現も特別なセンスもいりません。大切なのは「うまく言うこと」ではなく、その手前で「いいところを見つけること」だと私は考えています。実は、コピーライターの本当の仕事は、巧みな表現の言葉をつくることではなく、世間から見向きもされない商品や企業にさえ「必ずいいところがある」と信じて探し出し、わかりやすい、ありきたりの言葉で言い当てること。この「いいところを見つける力」は、そのままビジネスの武器になります。会議で相手の見ていない価値を提案する。批判ではなく可能性で人を動かす。対立を生まずにチームを前に進める。 本講座では、その視点の見つけ方を、誰もが明日から使える形で解説します。講座後半は「5つのいいところ発見術」を使い、ご自身の仕事上の悩みを題材に、その場で「言語化し直す」ワークを実施。聞いて終わりではなく、持ち帰れる実践型の2時間です。

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【セミナー】技術ロードマップの策定と研究開発戦略への実装

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[講 師] 日本工業大学技術経営大学院 教授 清水 弘 氏 [重点講義内容] 技術ロードマップは、市場・製品・技術の3層でこれらのつながりを示す技術戦略手法の一つです。技術部門の皆さんの経営・事業への貢献を示す重要アウトプットといえます。ただ、戦略技術や途上技術の強化がいかに技術・製品・市場につながり、経営・事業へ貢献するかを描くことは容易ではありません。 本セミナーでは、技術マーケティングの基本手法、特にMPT-Lを活用した技術ロードマップの作成について説明したいと思います。 ※MPT-L:市場(Market)・製品(Product)・技術(Technology)のつながり(Linkage) [講演項目] 1.技術ロードマップとは 2.技術ロードマップ作成の基礎知識 3.マーケットインとプロダクトアウトの技術ロードマップ 4.技術ロードマップ作成の個人のスキルと組織の巻き込み方  5.まとめ・質疑応答・ディスカッション

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【セミナー】SpaceXが描く宇宙AIインフラの全貌

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[講 師] 株式会社インフラコモンズ 代表取締役 今泉 大輔 氏 [重点講義内容] SpaceXは現在、半導体製造(Terafab)・衛星通信(Starlink)・宇宙輸送(Starship)の3事業を垂直統合し、軌道上にAIデータセンターを展開する構想を具体化しつつある。2025年に開示されたNasdaq上場SPC「SPCX」の目論見書・財務諸表によれば、売上高186億7,000万ドルのうち、Starlinkが113億9,000万ドルを占め、EBITDAマージン63%という高収益構造を示している。一方でStarship開発に年間30億ドル超を投じており、宇宙インフラへの大規模再投資が続いている。 本セミナーでは、この財務構造の実態と「軌道上AIデータセンター」の技術アーキテクチャを読み解いたうえで、日本企業がどの領域で参入余地を持つかを具体的に論じる。

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【セミナー】データセンター開発における法的リスクと実務対応

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[講 師] 牛島総合法律事務所 弁護士 猿倉 健司 氏 [重点講義内容] データセンターの設置・運用については、開発規制や環境関連規制等の法令のほか、各地方自治体の条例を含む様々な法規制があるため、事前に十分な調査や検討、行政との調整が必要となります。また、近時、地域住民の反対によりデータセンターの建設が頓挫したり大幅な計画変更を余儀なくされる例も多く、このようなリスクにも配慮した対応を行う必要があります。 本セミナーにおいては、データセンターを開発し事業を進めていくにあたって問題となり得る法規制等の概要や紛争トラブル事例について、実務上の留意点とともに紹介します。 [講演項目] 1.データセンター開発・紛争の増加 2.データセンター開発、運用時の法規制  (1)用地取得・建築時  (2)開発時・操業時の環境関連規制  (3)EPC(設計・調達・建設)・電力需給関連規制  (4)その他の規制 3.データセンター開発に伴う紛争事例  (1)訴訟事例  (2)トラブル事例 4.質疑応答/名刺交換

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CSPI2026 第8回国際建設・測量展

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2026年6月17日(水)~20日(土) 10:00~17:00(最終日は16:00まで) 幕張メッセ展示ホール6 ブースNo.16-50 ご希望の方は招待状をお送りします!

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