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  4. 《世界初の技術を紹介します!!》nano tech 2024 第23回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議
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2024/01/25

《世界初の技術を紹介します!!》nano tech 2024 第23回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議

三菱化工機株式会社 産業機械 三菱化工機株式会社 産業機械
三菱化工機は、東京ビッグサイトで開催される「nano tech 2024 第23回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」に出展致します。 (会期:1/31(水)~2/2(金)、主催:nano tech実行委員会) 弊社ブース(東4ホール No.4N-16)では、 『ナノ粒子分離のその先へ』をメインテーマとして ご好評をいただいているベンチスケール機のデモ運転及び遠心分離機の実機の展示を行います。 また、今回は電界ろ過法を用いた世界初の電界フィルター「Ele Fil (エレフィル)」のデモ運転を行いますので、ぜひ会場に足をお運びください。 《出展品》  ★小型機デモ運転★   ◎小型ろ過乾燥機   ◎回転式セラミック膜ろ過機 三菱ダイナフィルタ DyF(R)   ◎電界フィルター Ele-Fil (エレフィル)  ★実機展示★   ◎分離板型遠心分離機 三菱ディスクセパレータ     ★パネル展示★   ◎連続回転ろ過機 mini CURUPO    安心して弊社ブースにお越しいただけるよう、引き続き感染防止対策を行い、皆様をお待ちしております。
展示機器(DyF、ディスクセパレーター、 小型ろ過乾燥機)
展示機器(DyF、ディスクセパレーター、 小型ろ過乾燥機)
電界フィルターEle-Fil (エレフィル)
電界フィルターEle-Fil (エレフィル)
開催日時 2024年01月31日(水) ~ 2024年02月02日(金)
10:00 ~ 17:00
会場 会場:東京ビッグサイト  ブース:No.4N-16(東4ホール) <電車でご来場の場合> 《アクセス》 電車でご来場の方 〇りんかい線 「国際展示場」駅下車   徒歩約7分 〇ゆりかもめ 「東京ビッグサイト」駅下車 徒歩約3分 バスでご来場の方 〇都営バス  東京駅発 都05系統 東京駅丸の内南口(勝どき駅経由)所要時間:約40分 東16系統 東京駅八重洲口(豊洲駅前経由) 所要時間:約40分 門前仲町発 門19系統 門前仲町(豊洲駅前経由)    所要時間:約30分 車でご来場の方 〇都心方面から 首都高速11号台場線~台場出入口より約5分 〇横浜・羽田方面から 首都高速湾岸線~臨海副都心出入口より約5分 首都高速10号晴海線~豊洲出入口より約5分
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回転式セラミック膜ろ過機『三菱ダイナフィルタ(DyF)』

1台で工場廃液を削減!ナノ粒子スラリーを高濃度濃縮液と清澄ろ液に精密分離。防爆対応

『三菱ダイナフィルタ(DyF)』は、ナノサイズの微細粒子スラリーを精密に分離し、 高濃度な濃縮液と清澄ろ液に分けて回収できる回転式セラミック膜ろ過機。 ディスクが回転することにより、ろ過障害の原因となる ケーキ層の形成を抑制し、高い処理能力を維持します。 研究開発用の卓上型「DyF152/S」のほか、 最大ろ室容量230Lの大型機「312シリーズ」などをラインアップしており、 飲料ろ過後の廃液処理コストの削減や、研磨廃液中の有効成分の再利用、 クーラント廃液の削減などに貢献します。 【特長】 ■312シリーズでは大容量処理に対応 ■難ろ過性スラリーを高効率にろ過 ■コンタミレスで高濃度に濃縮可能 ■防爆対応で幅広い溶剤に対応 ■業界最小クラスの卓上タイプもラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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研究開発・ベンチスケール 小型ろ過乾燥機

《新開発》ベンチスケール、少ないサンプルでも実機と同じ処理操作が可能!お客様の『こんなろ過機がほしかった!』を実現します

『小型ろ過乾燥機』は、ベンチスケールの水平ろ板型ろ過機です。 密閉されたろ過室の内部にパドル型の攪拌羽根を備えています。 ろ室容量3Lの小型機ですが、コマーシャルレベルの実機と同じように、 ろ過からケーキ洗浄、脱液及び通気乾燥までを一貫して行うことができます。 《こんな方にオススメです!》 ■少ないサンプルで実験したい ■数kg単位の製品試作をしたい ■多様な運転条件の運転条件検討をしたい ■サンプル試作の時間を短縮したい ■暴露対策が必要なサンプルの運転条件を検討したい ※オススメの理由は添付資料で詳しくご紹介しています。  是非ダウンロードの上、ご確認ください。

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分離板型遠心分離機『サニタリタイプ三菱ディスクセパレーター』

湿式遠心分級用/遠心分離用!サブミクロン粒子を短時間で分離(濃縮、除去)する事が可能。

『三菱ディスクセパレーター』は、 累計100,000台以上の販売実績を誇る分離板型遠心分離機です。 強力な遠心力と内蔵する分離板の相互作用により、原料スラリー中の サブミクロン粒子を短時間で分離・除去します。 この分離技術を応用し、ディスクセパレータへの供給流量を調整することにより、捕捉粒子径を変える湿式分級精製工程にご使用頂けます。 【特長】 ■防爆対応可能 ■回転を止めない連続処理が可能  ・微細粒子(液と同搬):インペラから連続排出  ・粗粒子:排出孔から間欠的に自動排出 ■処理液の温度変化を抑える保冷ジャケットを装備可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【セミナー】AI・無人化が生む新たな防衛ビジネス

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[講 師] アーサー・ディ・リトル・ジャパン株式会社 パートナー 立野 大輔 氏 プリンシパル 長山 晃大 氏 [重点講義内容] ドローン、AI、ソフトウェア、衛星、電子戦が戦い方そのものを変え、防衛産業はいま重厚長大型からAI・ソフトウェア・データ・無人システムを中心とする産業へ転換しつつあります。米国ではPalantirやAndurilなどソフトウェア起点の新興企業が既存防衛企業に挑戦し、日本でも防衛力整備計画、防衛産業基盤強化法、スタートアップ参入など構造変化が始まっています。 本セミナーでは、世界の安全保障環境と産業構造の変化、国内外の先進プレイヤーの戦い方を踏まえ、日本企業が勝てる領域、デュアルユース、ソフトウェア企業との連携、M&A・アライアンス、人材戦略を議論します。変化を脅威ではなく成長機会として捉え、新しい日本の防衛産業をどう構築するかを経営の視点で考えます。

2026年08月21日

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【セミナー】米中AIフロンティアモデルの衝撃

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[講 師] 米国 VentureClef社 代表/アナリスト 宮本 和明 氏 [重点講義内容] 米国のフロンティアモデル(最先端モデル)が想定外の速度で進化している。フロンティアモデルを基盤とするAIエージェントが、企業のビジネス形態を一変させた。中国企業は大規模オープンソースを開発し、その性能は米国モデルに迫る。一方、米国企業はオープンソースの開発を開始し、米中直接対決の構図が生まれる。 セミナーでは米中のフロンティアモデルを検証し、最新技術と重要トレンドを解説する。日本企業は米中AI開発競争をどう捉えるべきか、技術とビジネスの観点から論点を整理する。米国モデルと中国モデルの使い分け、また、オープンソースとクローズドソースの利点と課題など、企業がAI時代を勝ち抜く戦略を考察する。 [講演項目] <1>フロンティアモデル (米国) <2>フロンティアモデル (中国) <3>技術トレンド・日本企業のAI戦略  <4>質疑応答

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【セミナー】ファーウェイのAI戦略

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[講 師] (株)野村総合研究所 未来創発センター チーフエキスパート 李 智慧 氏 [重点講義内容] ※現地調査をもとに最新情報を適宜追記する予定です。 2026年7月上海開催された世界人工知能大会でファーウェイは独自のAIチップを基盤とした次世代の計算インフラ製品を初公開し、大きな注目を集めました。 米国による先端半導体の輸出規制が続くなか、単体チップの性能限界を「システム工学」によるアプローチで克服し、計算基盤からクラウド、OS、AIモデルなどで中国国内の自立的なAIエコシステム構築を牽引する姿勢をアピールしました。 最新の現地調査結果を踏まえて、中国のAI産業全体像を踏まえてファーウェイのAI戦略の最新動向(計算基盤、AIモデル:AI社会実装、AIエコシステムなど)を解説します。 [講演項目] 1.中国AI産業の現在地 2.進むインフラの国産化 3.ファーウェイのフルスタックAIエコシステム 4.今後の展望 5.質疑応答

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【セミナー】改正個人情報保護法の全体像と実務対応

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[重点講義内容] 一.個人情報の保護に関する法律等の一部を改正する法律(令和8年改正)の概要 個人情報保護委員会 事務局 参事官補佐 城戸 賢仁 氏 1.改正法成立までの経緯 2.改正内容[1](適正なデータ利活用の推進) 3.改正内容[2](リスクに適切に対応した規律) 4.改正内容[3](不適正利用等防止) 5.改正内容[4]  (規律遵守の実効性確保のための規律) 6.改正法の施行に向けて  (政令・規則・ガイドラインの検討状況等) 7.質疑応答/名刺交換 二.改正法の施行に向けた実務対応のポイント 森・濱田松本法律事務所 外国法共同事業 パートナー弁護士 岡田 淳 氏 1.改正法に基づく実務対応の全体的な視点 2.各論[1]:統計特例とAI 3.各論[2]:子供の個人情報等の取扱い 4.各論[3]:課徴金 5.各論[4]:その他の個別論点 6.全面施行に向けたタイムラインとTo Do 7.質疑応答/名刺交換

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第28回 自動認識総合展 2026

【2026年9月9日(水)~11日(金)】「第28回 自動認識総合展 2026」出展のお知らせ

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株式会社光アルファクスは、東京ビッグサイトにて開催される「第28回 自動認識総合展 2026」に出展いたします。 当社ブースでは、金属対応RFIDタグ(PMTシリーズ)をはじめ、「キーホルダー型タグ」や「堅牢・耐環境チューブタグ 」など幅広いラインアップの製品を展示いたします。 皆様のご来場、お待ちしております。

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