無料セミナー：電池・電子部品材料の微粒化技術と濃厚系スラリー評価の最前線【マイクロトラック・ベル株式会社主催／ビーズミルのトップメーカー・アシザワ・ファインテック株式会社様の招待講演】

レーザ回折・散乱＆動的画像解析式！「粒度分布測定」と「画像解析による形状評価」を1台で実現

『SYNC』は、高精度な「粒度分布測定」と「画像解析による形状評価」を 1台の装置で実現した粒度分布・粒子形状測定装置です。 3本レーザ光学システムにより、粒子からの散乱光を0～165度の 高角度にて連続面として検出し、粒度分布の高分解能測定を実現。 円形度、アスペクト比、凹凸度、円相当径、楕円短径、楕円長径、 フェレー径、等の評価が可能です。 【特長】 ■測定範囲：粒子径：0.02～2000μm　画像解析：5～2000μm ■高精度な粒度分布と画像解析による形状評価を、1台の装置で実現 ■様々な業界でスタンダード評価装置となっている3本レーザシステムの 　粒子径分布測定 ■円相当径、楕円相当径（短径・長径）、フェレー径（短径・長径）、 　円形度、アスペクト比、凹凸度など30以上の形状評価が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置

スラリー・エマルジョンの分散安定性評価を非破壊・無希釈で！

『TURBISCANシリーズ』は、静的多重光散乱法(SMLS)による 分散安定性評価を行う装置です。 高濃度(〜95Vol％)な測定対象を希釈等で傷つけることなく 測定可能。分散安定性を評価する指標「TURBISCAN STABILITY INDEX(TSI)」を用いて、分散状態の経時変化を数値化します。 数値化された結果を元に、分散安定性の良否を迅速に評価、 保管期限(Shelf-Life)を決定します。 【特長】 ■静的多重光散乱法(SMLS)による分散安定性評価 ■高濃度(〜95Vol％)な測定対象を希釈等で傷つけることなく測定可能 ■TSIを用いて、分散状態の経時変化を数値化 ■数値化された結果を元に、分散安定性の良否を迅速に評価、 　保管期限(Shelf-Life)の決定 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 分析機器・装置

ヘキサコア株式会社は2026年3月24日～3月25日の2日間、東京都立産業貿易センター浜松町館にて開催される 「Data Center Japan 2026」に出展いたします。 ヘキサコア株式会社ブースでは、各種分電盤をはじめ、計測・監視システムや導入支援サービスをご紹介します。 【主な出展製品・サービス】 ・IEC分電盤／アルミ乾式変圧器（パネル展示） データセンター向けIEC準拠分電盤（PDP）を展示します。 あわせて、PDUに採用実績多数アルミ乾式変圧器を展示 ・データセンター向け遠隔監視システム導入支援サービス（パネル展示） 監視システムの導入検討から現地工事、立ち上げまで、お客様の要件に沿って支援します。 ・PAL-Plus／PAL-Plus大容量版 　手軽に省スペースで交流電流(60A、125A～630A)を計測できる、通信機能内蔵のIoTセンサーです。 ・CEW-M4 　電流、電力、電力量、温湿度など設備状況を見える化し、分電盤の電力使用量や残電力容量などを効率的に管理できるマネージャーソフトです。 ご来場を、心よりお待ち申し上げております。

[講　師] PwCコンサルティング合同会社 Strategy& シニアマネージャー 小長井 啓 氏 [重点講義内容] 製造業の間で生成AIを活用する動きが急拡大している。だが、「とりあえず導入」した結果、成果を生み出せないという罠にはまる企業が少なくない。Strategy&が欧州製造業247社を対象に実施した調査では、バックオフィス活用では効果が限定的である一方、R&Dや営業などコア業務への導入こそが収益改善の「本丸」であることがわかった。 日本企業においても、周辺業務の効率化にとどまる企業より、事業構造の変革を志向する企業の方が期待を上回る成果を出している。しかし現状では、売上や粗利率などの結果指標とセットで検討するケースは多くない。 本講演では、「上流（設計・開発）の強化」「下流（アフターサービス）の効率化」「推進体制の構築」という3つの視点から、収益インパクトを最大化する生成AI活用戦略を詳説する。

本セミナーでは、モバイルアプリの作成から社内システムとのデータ連携やデータ活用業務の自動化までをノーコードで簡単に実現できる「Platio Connect」をご紹介します。デモや、実際に業務効率化を実現された企業の事例についてもお伝えします。現場のデータを社内資産として有効活用したい方や、社内のデータを現場でも活用したい方、現場のDX推進にご関心のある方は、ぜひご視聴ください

2026年に開催を予定しておりますイベントの年間スケジュールについてご案内いたします。 本年も、 ・分析技術の理解を深めていただく技術研修会 ・装置を実際にご覧いただける内覧会 ・分野別・テーマ別のセミナーやワークショップ など、オンライン・各地開催を織り交ぜながら、幅広い内容を企画しております。 各イベントの募集開始やプログラムの詳細は、開催日が近づき次第、改めてご案内させていただきます。 なお、スケジュールは一部変更となる場合がございますので、あらかじめご了承ください。 本年も皆さまとお会いできる機会を、スタッフ一同楽しみにしております。 今後ともフォス・ジャパンをどうぞよろしくお願いいたします。

2026年4月21日(火)～4月22日(水)に「第43回空気清浄とコンタミネーションコントロール研究大会」に出展します。 予定出展機種：6000・9000・8506-30・MMS(マルチセンサ制御ソフトウェア） 新機種の6000とMMS(マルチセンサ制御ソフトウェア）をお披露目します。