第2回 高機能セラミックス展　出展のご案内

シンコーメタリコンは、すべての溶射プロセスを保有します。

各種産業機械やシステムは、極めて苛酷な環境や条件にも耐えうるように設計する必要があります。 その意味で“溶射”は製品性能に欠くことのできない表面改質技術です。 溶射技術は、防せい・防食に対する鉄鋼構造物などの基材保護及び化学機器装置などの耐薬品に対する環境遮断を目的とした溶射と、各工業分野の設備、装置などにおける耐摩耗、耐熱遮熱、絶縁などを目的とする機能的な溶射に区分されます。 溶射とは、金属やセラミックス、サーメットなどをさまざまな熱源を用い溶融噴射し、基材表面に材料を噴きつけて機能皮膜を形成する表面改質技術です。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

皮膜自体が耐食性を持つとともに、素地を電気化学的に防食する性質をもっている

溶射法 「防食溶射」は、大きな構造物にも溶射が可能で、基材の熱による変形や変質もなく、溶射方法が簡単で移動設備があれば建設現場、又は補修現場において溶射を施工することができます。 皮膜自体が耐食性を持つとともに、素地を電気化学的に防食する性質をもっています。 溶射材料には亜鉛、アルミニウム、亜鉛・アルミニウム合金、アルミニウム・マグネシウム合金があります。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

固相状態のまま基材に衝突させて皮膜を形成する技術です。

溶射法 「コールドスプレー」は、材料の融点又は軟化温度よりも低い常温から、ヒーターにて昇温した作動ガスを先細末広形のノズルへ超音速流にして、材料を投入し、固相状態のまま基材に衝突させて皮膜を形成する技術です。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

溶射材料としては、線状に加工できる金属材料なら溶射が可能です。

溶射法 「溶線式フレーム溶射」は、酸素－アセチレン（プロパン）などによる燃焼炎中に線状溶射材料を連続的に送り、溶融させ圧縮空気により微粒化した材料を基材に吹付けて皮膜を形成するプロセスです。溶射材料としては、線状に加工できる金属材料なら溶射が可能です。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

高温で溶融されているため基材への密着性に優れています。

溶射法 「アーク溶射」は、2本の金属ワイヤ間でアーク放電を発生させ、この放電エネルギーでワイヤを溶融し、圧縮空気により微粒化された材料を基材に吹付けて皮膜を形成するプロセスです。 溶射材料は電気伝導性に優れた材料に限られますが、高温で溶融されているため基材への密着性に優れています。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

溶射皮膜は未溶融粒子を含まない粒子間の結合力の高い優れた皮膜が得られる

溶射法 「溶棒式フレーム溶射」は、棒状に加工した酸化物セラミックスを、酸素－アセチレン炎中に連続的に供給し溶融させ、圧縮空気によって微粒化された材料を基材に吹付け皮膜を形成するプロセスです。 溶射皮膜は未溶融粒子を含まない粒子間の結合力の高い優れた皮膜が得られます。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

フュージングにより材料と基材が溶着するので、衝撃による剥離が生じません

溶射法 「粉末式フレーム溶射」は、酸素－アセチレン（プロパン）などによる燃焼炎中に粉末溶射材料を投入し、燃焼炎中で溶融させ燃焼ガス流により加速し、基材に溶融粒子を衝突させて皮膜を形成するプロセスです。 主に溶射後に再溶融処理をする自溶合金溶射やプラスチック溶射に広く利用されています。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

基材と溶射皮膜の密着性が高いなどの特性をもっています。

溶射法 「プラズマ溶射」は、不活性ガスを通電し、プラズマジェットを形成させ、これに粉末状の溶射材料を投入し皮膜を形成するプロセスです。 高融点の金属、サーメット、セラミックスをはじめ、ほとんどの材料を溶射することができます。 また、基材と溶射皮膜の密着性が高いなどの特性をもっています。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

高密度、高付着力、高硬度などの特性をもっています。

高温の燃焼ガスが、高速流となりこれに投入された粉末溶射材料は音速をはるかに超えるスピード（マッハ４）で基材に衝突し皮膜を形成するプロセスです。 WC系サーメット材料を用いた耐摩耗溶射に広く利用されており、高密度、高付着力、高硬度などの特性をもっています。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 加工受託

このたび、大学・国立研究機関で「創薬・農薬研究」に取り組まれている研究者の皆さまを対象に、実験・データ蓄積・データ分析・アイデア創出（分子設計）という研究開発サイクルを、ひとつのプラットフォームで支えるオンラインウェビナー（参加費無料）を開催いたします。

[講　師] 株式会社日本能率協会コンサルティング シニア・コンサルタント 木村 壽男 氏 [修得知識] １．テーマ創出： アイデアの「質と量」を組織的に高める考え方とプロセス ２．事業化構想・企画： 顧客価値を機軸とし、テーマ価値を最大化させるアプローチ ３．開発実践： ゴール仮説の構築とリアルタイム進捗管理による開発加速化の手法 ４．テーマ評価： 投資対効果の高い「真に価値あるテーマ」を適正に見極める評価システム [講演項目] １. 新製品開発プロセスの重要性と4つのマネジメント変革対象 ２．「アイデア・テーマ創出フェーズ」を革新する ・・・「NBP」 ３．「事業化構想・企画フェーズ」を革新する ・・・「CF」 ４．「開発実践フェーズ」を革新する ・・・「FF」 ５．「テーマ評価システム」を革新する ・・・「FVE」 ６．新製品開発プロセスの再構築・強化にむけた具体的取り組み ７．質疑応答／名刺交換

大学や公的研究機関で生まれた先端技術をご紹介する 「大学発シーズ マッチングセミナー」 を開催いたします。今回のテーマは 「新素材から生まれる新たな事業機会 ～多糖由来 高靱性ハイドロゲルの可能性～」 です。 高い靱性と柔軟性を兼ね備えた多糖由来ハイドロゲルは、 次世代電池の電解質材料として期待される新素材です。 医療・ヘルスケア、ソフトマテリアルなど幅広い分野への応用も期待されており、 本セミナーでは発明者自ら技術の特徴をご紹介するとともに、 想定される用途や共同研究・事業化の可能性についてご紹介します。 プログラム： 13:35～13:55：「高靱性・高耐熱性・高イオン伝導性を示す天然多糖ハイドロゲル」 京都大学大学院 工学研究科 化学理工学専攻　准教授　堀中 順一 高い靱性と柔軟性を兼ね備えた多糖由来ハイドロゲルをご紹介します。 次世代電池の電解質材料として期待される特長を中心に、 医療・ヘルスケア、ソフトマテリアルなど幅広い用途への応用可能性や、 共同研究・事業化に向けた展望についてご紹介します。 13:55～14:10： 応用展開のご紹介・質疑応答

2026年7月28日（火）～29日（水）に湘南ヘルスイノベーションパーク（湘南アイパーク）で開催される日本動物細胞工学会（JAACT2026）に出展いたします。 本学会では、ザルトリウスの新しい細胞株開発プラットフォームCellCelector CLDプラットフォームを出展する予定です。CellCelector CLDは、自動細胞イメージング・ピッキング技術を基盤とし、単一細胞の検出からモノクローナリティ証明、高産生クローンの評価および自動ピッキングまでを統合した細胞株開発向けソリューションです。 詳細仕様やアプリケーションのご相談、デモのご要望などがございましたら、どうぞお気軽にザルトリウスのブースへお立ち寄りください！ ◼ブース番号：7番 さらに、当社のフィールドアプリケーションサイエンティスト瀬口武史より“新しいCellCelector CLDによる次世代細胞株開発ソリューション～単クローン性証明から高産生クローン選抜まで～”をご紹介いたします。 ◼テクニカルセミナー日程：7月28日（火）16:45～17:10（ 3番目） 皆様のご来場をお待ちしております！

[講　師] 東京電力ホールディングス株式会社 DXプロジェクト推進室長 藤本 洋 氏 [重点講義内容] エネルギー業界をはじめ、DXの取組やAI活用への期待が一段と高まる中、東京電力グループ では、第五次総合特別事業計画を踏まえ、経営戦略と一体となったDXを推進しています。 本講演では、グループ全体のDX戦略の考え方、AI活用の取組、DX人財育成、データ活用や 具体事例についてご紹介します。 [講演項目] １．東京電力グループのDX活用の全体像 ２．AIやデータを活用した取組 ３．業務の進め方を見直した具体例 ４．取組を進めるための体制と工夫 ５．DX分野を担う人材の育成 ６．今後の方向性 ７．質疑応答／名刺交換 （講演項目は、最新の状況に応じて変更となる可能性がございます。）