【2020年1月15日～17日】第34回 ネプコン ジャパン -エレクトロニクス 開発・実装展-に出展いたします。

　多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリーニング・親水化対応、半田濡れ性向上、実装前処理に最適

半導体製造装置のチャンバをシンプル化・低コスト化しプラズマクリーニングに応用 プラズマモード切替機構（ＲＩＥ，ＤＰ）とマルチガス（Ａｒ、Ｎ２，Ｏ２，Ｈ２）プロセスにより従来にない表面処理を実現。 基板洗浄（酸化物・有機物除去・微細異物除去） 親水性処理（メッキ前処理、半田濡れ性向上） 撥水性処理（ウェット工程前処理） リフロー前処理に実績豊富　半田濡れ性向上効果大 ハイエンド製品（高密度実装基板、フレキシブル基板、パワーデバイスモジュール）の量産ラインに実績豊富。 基板やライン形態に合わせてインライン化、枚葉化タイプも標準ランナップ

• その他実装機械

パワーモジュールからウェハバンプまでフラックスレス・ボイドレスリフローを実現。新型登場でグレードＵＰ！　※サンプルテスト対応中

高信頼性半田付を実現するバッチ式真空半田付装置 真空排気による低酸素雰囲気での高速・均一半田付。真空・常圧・各種雰囲気（還元・不活性）の組合せにより高いレベルのボイドレス半田付を実現。車載用高信頼性パワーモジュールの標準プロセスの基本型。 処理量＆性能ＵＰの新型登場。 新型機を工場に設置。装置見学およびサンプルテスト積極対応 前処理のプラズマクリーニングも含めボイドレス・フラックスレス半田付テスト実施 ★ネプコン・ジャパン2020へ出展します！ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さいませ。

• リフロー装置
• はんだ付け装置
• 電気炉

[講　師] 一般社団法人日本メタル経済研究所 特任アナリスト 志田 富雄 氏 [重点講義内容] レアアース（希土類）などのレアメタル（希少金属）から銅まで金属の重要性が増している。AI（人工知能）の普及を支えるデータセンターの建設ラッシュや再生可能エネルギー、EVの普及で需要が拡大する一方、資源ナショナリズムや環境問題で供給不安が高まっているからだ。 中東情勢の混乱をはじめとする地政学リスク、世界の分断も安定調達を困難にする。金属精錬の分野でも存在感を増した中国は輸出規制だけでなく、安値輸出で日米欧のサプラーチェーンを揺さぶる。米国は昨年改定した重要鉱物リストに銅など10種の金属を加えた。 日本企業はどう動くべきか。 [講演項目] １．時代で変化する「重要鉱物」 ２．AIもEVも未来の技術は金属頼み ３．鉱山開発で増す課題とコスト ４．中東情勢の緊迫など国際情勢の変化はどう影響？ ５．中国の揺さぶりは輸出規制だけではない 　～サプライチェーン構築への課題 ６．日本企業に「コスト増」を受け入れる覚悟はあるか ７．質疑応答／名刺交換

[講演項目] 一．日本の自動車・電池業界の現状と、今なぜ中国の最新動向（AI・SDV）を見るべきかの課題提起 沖為工作室合同会社 Founder&CEO 沖本 真也 氏 二．北京モーターショー視察報告と中国の最新自動車・技術動向解説 KAIST技術経営専門大学院 兼 職教授 朴 正圭 氏 三．パネルディスカッション 沖為工作室合同会社 Founder&CEO 沖本 真也 氏 KAIST技術経営専門大学院 兼 職教授 朴 正圭 氏

[講　師] 株式会社ビットメディア　代表取締役社長 株式会社MESH-X　代表取締役 高野　雅晴（たかの　まさはる）　氏 [重点講義内容] 生成AIの普及によりデータセンター（DC）の電力需要が急増し、電力（ワット）と通信（ビット）を一体的に整備する「ワット・ビット連携」が国家戦略として動き出している。 本講演では国内政策の最新動向を整理したうえで、電力系統の空き容量を最大活用する「ワークロードシフト」、分散拠点を仮想的に束ねる「バーチャル・ハイパースケーラー」、DCの次世代廃熱技術の新潮流、IOWN／APN等の次世代通信基盤といった鍵となる技術を解説する。 あわせて、米国フェニックスでのAIデータセンター電力柔軟化実証など海外事例を交え、AI時代の電力コスト急騰に企業がどう備えるべきか、デジタル・インフラの実装の方向性を示す。

イベント名：メッセナゴヤ2026 開催期間：2026年11月11日～2026年11月13日 場所：ポートメッセナゴヤ 大きなイベントには初出展です。 精一杯頑張りますのでご来場の際には弊社ブースもお立ち寄りください。

危険物施設におけるスマート保安、DX化推進の第一歩として欠かせない「危険区域の精緻なリスク評価」について解説。 新旧の評価方法の比較や最近の活用事例を交えながら、評価方法や実施上の留意点などを分かりやすくお伝えします。 皆さまのご参加をお待ちしております。