半導体ウエハプロセス、LCDプロセス、光ファイバプロセス、一般研究用など、あらゆるプロセスに対応
コストパフォーマンスを徹底追及した、アナログマスフローコントローラ
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基本情報
【特徴】 ■汎用ガスラインに最適 ■メーカー：ブルックスインスツルメント株式会社 ■仕様：精度±1% F.S. 応答性3秒以内(F.S.±2%到達) ■ガス種：ご注文時にご指定 ■流量範囲：フルスケール 30mL/min〜30L/minでご注文時にご指定 フルスケールが10〜100L/min対応モデルの5851Em 100〜1,000L/min対応モデルの5853Eもラインナップ ■最高圧力：10MPa ■本体材質：SUS316L、バイトン ■継手サイズ サイズ：1/8、1/4、タイプ：SWL、VCRタイプ ■入出力信号：0〜5VDC □その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
価格情報
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納期
用途／実績例
【用途】 ■半導体ウエハプロセス ■LCDプロセス ■光ファイバプロセス ■一般研究用
企業情報
高圧ガスの高圧（一般的には15MPa：150kg/cm2）から超高真空の真空領域（1x10-9Pa：1x10-11TORR）までの機器（規格品・製作品）をご提供いたします。また、高温領域（2300℃）から極低温領域（-270℃）の雰囲気を装置としてご提供できます。具体的には高温真空熱処理炉や真空低温実験装置までご相談により設計・製作致します。もちろん各種機器のユーティリティー配管、雰囲気用ガス・プロセスガスもご用意させていただきます。何なりとご相談ください。