高品質なフォトマスクを短納期、低価格でご提供
高精度レーザー描画装置と高度に管理されたクリーン環境、長年に亘るノウハウを結集して構築したプロセスにより、高精度かつ高品質なフォトマスクをご提供します。 徹底的に合理化されたプロセスは製造コストの削減とリードタイムの短縮を実現。高い品質はもちろん、他社に負けない低価格、最短中一日納入の短納期対応の両立を可能としました。 また、更なる品質向上を目指して洗浄装置、検査装置など大幅な設備増強を行い、日々高度化するお客様のご要望を満たす製品作りに努めております。 安価な量産用コピーマスクからペリクル付きレチクルまで幅広く対応可能。お客様の用途とご要望に応じて最適なご提案をさせて頂きますので、詳細はお気軽にお問い合せ下さい。
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基本情報
フォトリソグラフィにより電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する原版として用いられます。ガラスやフィルム上に数マイクロメートルレベルの微細かつ精密な遮光パターンを形成したフォトマスクは半導体素子、FPD、プリント配線板といった電子部品の製造工程で使用されています。当社では各事業のフォトリソグラフィ工程にも自社製フォトマスクを使用しており、社内一貫生産体制が整備されています。
価格情報
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納期
用途／実績例
半導体用フォトマスク、レチクル FPD用フォトマスク 配線板用フォトマスク
企業情報
日々進化し続ける先端分野に欠かせないフォトリソグラフィ。私たちはそのフォトリソグラフィ技術を複合的に組み合わせた加工サービスを提供し、皆様のご愛顧を頂戴してまいりました。今後も絶えず技術革新にエネルギーを集中し、確かな技術と豊かな提案力で皆様と明るい未来を創造します。
