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最終更新日:2018年07月20日

株式会社プロセス・ラボ・ミクロン
株式会社プロセス・ラボ・ミクロン
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板厚精度、開口精度、位置精度に優れ、リピート製品においても高い再現性を誇る

高精度アディクティブにより製造される半田ペースト印刷用メタルマスクです。IC向け基板やウエハ向けのマスク作成が可能です。

    その他金属材料
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バンプマスク

bamp_image2.jpg
bamp_image2.jpg
  • 関連リンク - http://www.lab-micron.co.jp/bampmask.html

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【特徴】 ■開口部の断面形状が滑らかで半田ペーストの抜け性が良い。 ■開口寸法精度、位置精度に優れる。 ■任意の版厚指定が可能な為、必要半田量への適応性が高い。 ■薄い板厚も可能です。 □その他詳細についてはカタログをご覧ください

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「常に先駆者であり続けたい」 お客様の想いを形にするために、プロセス・ラボ・ミクロンはお手伝いします。 「幅広く多彩な技術をもとに、  お客様のあらゆるニーズにピンポイントでお応えします。」 メタルマスクのトップメーカーとしての当社の特徴、 それは数々の業界初の技術を自らの手で開発し続けてきたことです。 アディティブ法やレーザ加工など、 新しい技術を次々とメタルマスクの世界で確立させ、 「幅が広く、奥も深い」技術体制を築いてきました。 工法からサポート体制までさまざまな技術メニューをご用意し、 お客様のあらゆるご要望にピンポイントでお応えしています。 また、お客様の現場により密着し、生の声を製品づくりに活かすために、 全国をカバーする拠点ネットワークを築きました。

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