減圧中も加熱する為、製品の昇温が早く、乾燥時間が短縮
加熱真空乾燥装置は、乾燥速度が速い為、シミが出難く、錆・腐食の発生も少なくなっております。
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基本情報
【特徴】 ○乾燥槽サイズ：φ450～φ750×150H～400H ○スライド式蓋の為、長時間使用でも疲れない ○タッチパネル画面で操作も簡単 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。
価格情報
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納期
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用途／実績例
【用途】 ○各種乾燥処理 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください
企業情報
21世紀。今や欠くことのできない電子技術やIT技術を支える高度な精密洗浄システム。富士ハイテックでは、洗浄物に応じた様々な洗浄装置や乾燥装置、きのこをはじめとするアグリ技術における高圧殺菌装置や生産性の向上をはかる多種多様な自動システム機器をご提案いたします。 洗浄装置や乾燥装置の省力化に加え、クリーンルームにも対応した富士ハイテック独自の自動搬送ラインやシステム機器の開発、製造、販売をとおして信頼の礎を築くため日々努力を重ねております。 私たちも、地球環境と科学技術との調和をはかりながら、産業と社会の発展を推進するという熱い思いを胸に、未来に向って大きく飛翔する、新しい夢の発信基地でありたいと願っています。 富士ハイテックでは、洗浄物の形状、汚染状況、要求洗浄度、処理量、設置スペースなどお客様の条件を的確に分析し、長年の経験から得た多種多様のノウハウを基に、最適な洗浄・乾燥システムを御提案いたします。