UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。
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基本情報
【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵しているためオゾン処理設備が不要 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。
価格情報
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納期
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用途／実績例
【用途】 ○フォトレジストアッシング ○インクリム-バル ○溶剤残留物の除去 ○クロムマスクのクリーニング ○シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。
企業情報
ナノレベル~マイクロレベルの薄膜形成および加工の技術に優れ、研究開発用途から生産用途までの装置・技術提供に定評があります。加えまして、今後の市場拡大が見込まれております光源(LED・半導体レーザ)などのオプトエレクトロニクス分野に特化しております。
