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管状炉CVD装置

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最終更新日:2020年02月13日

株式会社マイクロフェーズ
株式会社マイクロフェーズ
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長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカーボン成膜をこの一台で実現できます。

オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。

    その他加工機械
MPCVD-50-CNT.jpg

管状炉CVD装置

MPCVD-50-CNT.jpg
MPCVD-50-CNT.jpg
  • 関連リンク - http://www.microphase.jp

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基本情報

【特徴】 ○ 真空CVDモードおよび大気圧CVDモードを実施できます。 ○ マスフローガス導入システム標準装備 ○ ナノカーボン生成向けCVDプロセスレシピを開示 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。

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価格帯

500万円 ~ 1000万円

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株式会社マイクロフェーズ

株式会社マイクロフェーズ

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 カーボンナノチューブ、ナノ材料、ナノテクノロジー分野において、市場ニーズの変化に追随し、 常に技術の最先端の位置を目指して、日々研究開発を進めております。 また、市場の多様なニーズに応えるために、幅広い知見と能力を身に着ける努力を続けております。  お客様の目的や要望を十分に理解し、目標達成のための最短距離を能動的に提案できるよう 常に心がけているつもりです。当社が蓄えてきた力を尽くすだけでなく、チャレンジすることによって 新たな知見と能力を獲得しながら、仕事に取り組んでいます。  ナノテクノロジーの進歩によって、数多くのイノベーションが生まれてきました。 ナノの不思議と魅力はまだまだ多く深く潜んでいます。 当社も、ナノテクの進歩に寄与し、イノベーションの創出に貢献していきたいと思います。

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