さまざまなオプティカルニーズに応える、日本真空光学
石英、サファイア、Si、Geなどの赤外用光学基板に多層膜を形成し、その干渉膜の作用により、赤外線を透過するフィルターです。
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基本情報
【特徴】 ○使用する光学基板の選択は、材料の光学特性を利用しています。 ○波長域を限定した赤外線のみを透過します。 ○設定した波長の両側に不要な透過光が生じますが必要に応じて、カットフィルター等を用いて除去します。 ○中心波長に対する半値幅の比率に対応した0型から3型を揃えています。 ○型が大きくなると、半値幅が太くなります。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
価格情報
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納期
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用途／実績例
用途 ・赤外線ガス分析 ・赤外線水分分析 ・赤外線放射温度計 ・回折格子の高次カットフィルター ・その他赤外線を利用した光学系に使用できます。
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企業情報
1946年の設立以来、光学薄膜技術の向上に努め、 高周波プラズマ・イオン・プロセス技術の確立など、常に技術の最先端を切り拓いてきた日本真空光学。 その卓越した技術力と確かな品質管理体制により生みだされた製品は、 家電から情報・通信、バイオ、宇宙開発など、幅広い領域で高い信頼性を得ています。 このように、光学薄膜技術の応用領域は広大無限。 当社では、技術の新しい可能性を提案していく"問題解決型企業"として、 お客様の抱えるさまざまなテーマに応え、お客様満足を追求し続けます。