基板サイズ1”～6”、Ⅲ－Ⅴ族、Ⅱ－Ⅵ族対応等お客様の使用環境・使用目的に最適な製品をご提供しています。
分子線セル、RHEED、BFM、基板加熱機構等の主要部品からチャンバー、シュラウド、プロセスコントローラ、シャッターコントローラ等の制御ユニットまで、一貫して自社にて製造致します。
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基本情報
【特徴】 ○ARIOSの超高真空技術を駆使しており、クリーンな真空での成膜が可能です。 ○分子線セル、基板回転加熱機構等主要部品は、加熱脱ガス処理を行っています。 ○RHEED、BFM、ラジカル源等豊富なオプションが選べます。 ○排気操作、プロセス操作は、タッチパネル、シーケンサーによる自動運転が可能です。 ○搬送は、トロッコ搬送、トランスファー搬送に対応できます。又、自動搬送も可能です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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企業情報
1972年、初代社長堀田が自宅の玄関先を作業場に 大誠産業株式会社を設立して以来、技術開発、 研究開発の仕事に打ち込んでまいりました。 当初は、気象研究所のポラックカウンタなどの開発に携わり、 空気を科学する仕事から始まりました。 その後、リークデテクタのメンテナンスサービスを 始めるなどして、次第に真空の世界に仕事を広げて行きました。 創立10年頃から超高真空の仕事が増え始め、 創立15年頃には小型の装置を製造できるようになりました。 現在、仕事の守備範囲は格段に増え、超高真空、 MBE、CVD、ECR、RFラジカル源など単に真空装置に止まらず、 各種のプラズマ、イオンあるいは電子を利用した 機能部品の開発を進めております。 今後、真に先端技術の世界で通用する 小企業を目標にしたいと考えております。