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耐食性に優れた電解Ni/電解Auめっき 代替めっきプロセス

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最終更新日:2011年09月06日

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プリント基板に。耐食性に優れたPd皮膜を形成させて、耐食性に優れています。

「耐食性に優れた電解Ni/電解Auめっき 代替めっきプロセス」は、.電解Niめっきと電解Auめっきとの間に緻密で耐食性に優れたPd皮膜を形成させているので、耐食性に優れています。めっき直後の半田濡れ性は電解Ni/電解Auめっきとほぼ同等です。詳しくお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

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耐食性に優れた電解Ni/電解Auめっき 代替めっきプロセス

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基本情報

【特長】 ○電解Niめっきと電解Auめっきとの間に緻密で耐食性に優れたPd皮膜を形成させているので、耐食性に優れています。 ○中間層としてPd皮膜を形成しているが、めっき直後の半田濡れ性は電解Ni/電解Auめっきとほぼ同等です。 ○プリント基板に最適。 ○研究開発から試作・量産品まで幅広くサポート。 ●詳しくお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。

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用途/実績例

【用途】 ○プリント基板

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株式会社三協は、確かな一歩を踏み出し、時代の変化に的確に対応できる表面処理のスペシャリストとして最高品質をお届けいたします。表面処理の仕事を通じて、D(顧客要求納期対応)Q(安定した製品品質)C(コスト削減への合理化)の積極的な取組みと社会(顧客)に満足していただける製品を提供し続け、会社の繁栄と従業員の生活向上を実現します。

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