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表面電荷分析装置 SCA2011

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SCA-2011

最終更新日:2020年07月17日

日本セミラボ株式会社 新横浜本社
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表面電荷分析装置

表面電荷分析装置は、半導体前工程管理とりわけ熱酸化膜、CVD膜形成、メタライゼーション、洗浄及びエッチングなどプロセス中に生じた汚染とダメージのモニタリングに最適です。

    その他検査機器・装置
SCA2500_pic_R.jpg

表面電荷分析装置 SCA2011

SCA2500_pic_R.jpg
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基本情報

ウェハー表面電荷量及び界面準位密度の測定   ■酸化膜工程    ・ウェハー汚染やプラズマ損傷による酸化膜中     電荷量の変化    ・熱ストレス等による界面準位密度の変化    ・窒化酸化膜中の固定電荷モニター   ■洗浄工程管理    ・ウェハー洗浄後の表面状態の電荷量チェック   ■CVD工程管理    ・膜中トラップ電荷状態のチェック

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用途/実績例

■非破壊リアルタイムプロセスモニター ・工程管理直後測定可能 ・電極形成不要 ・モニターウェハーの再生使用可能 ・高速測定 → < 1点/分 ・簡易操作 

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日本セミラボ株式会社

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Semilabは、世界の最先端技術の研究、製造をサポートする総合測定装置メーカーです。 半導体ウェハーからデバイスの検査に、非接触CV測定装置、ライフタイム測定装置、分光エリプソメーター、フォトルミネッセンス、DLTSシステム、シート抵抗測定装置、ナノインデンター、AFMなどを取り扱いしています。 装置の仕様や価格などお気軽にお問合せ下さい。

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