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エピタキシャル成長に最適 薄膜成長用酸化物基板

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最終更新日:2024年06月13日

株式会社信光社
株式会社信光社
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結晶育成~加工まで自社内で一貫生産。加工歪層のない高品質な結晶基板表面

【エピタキシャル成長に最適】 薄膜成長用酸化物基板は、1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板として、SrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けております。 エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。 弊社は長年の技術蓄積により、結晶育成から加工まで自社内で一貫生産しています。高精度な加工技術により、高品質な結晶基板表面に仕上げて提供を続けております。 標準的な仕様は常に在庫を持つようにしており、ご発注後10日間程度でお届けしております。 ご希望に合わせて面方位、形状、OFF角度などをオーダーメイドすることも行っておりますので、ラインアップにない仕様の製品も取り扱っております。お気軽にお問い合わせください。 ※詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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エピタキシャル成長に最適 薄膜成長用酸化物基板

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基本情報

【特徴】 ○酸化物単結晶STEP基板(一部仕様のオプションになります) →高品質なエピタキシャル成長に最適な当社独自のステップ処理を実施 →ステップ&テラスを保証し、平坦度に優れた高品質表面仕上げ →出荷時に基板全数のAFM像を添付 ○サファイア(α-Al2O3)基板 →結晶欠陥が非常に少ない内製サファイア単結晶を使用 →エピタキシャル成長に適した高品質表面 ○SrTiO3(チタン酸ストロンチウム)基板 →内製の高品質、高純度単結晶を使用 →エピタキシャル成長に適した高品質表面 →Nbをドープし、導電性を付与した結晶も標準取り扱い →STEP基板の対応可 ○TiO2(ルチル)基板 →内製の高品質、高純度単結晶を使用 →エピタキシャル成長に適した高品質表面 →Nbをドープし、導電性を付与した結晶も標準取り扱い →STEP基板の対応可 ○NdGaO3(ネオジムガレート)基板 →内製の高品質、高純度単結晶を使用 →エピタキシャル成長に適した高品質表面

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弊社は酸化物単結晶のメーカーです。 特に 1. サファイア(α-Al2O3) 2. SrTiO3 3. ルチル(TiO2の単結晶) の製品が得意です。 結晶メーカーですが、 切ったり削ったり磨いたりと一通りの加工も行っています。 創業より70年以上結晶を扱っておりますので、 特にサファイアに関する多くの 知見や経験を保有しています。 最近は300mm以上のサファイア結晶も量産育成していますので、 大型形状製品や量産対応も対応できるようになってきました。 社員170人程の小さい会社ですが、ご協力できることがありましたら、お気軽にご連絡ください。

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