CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。
真空機器関連商品 EBEP処理装置＜FAP-EB/2D＞は、低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置で、CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高密度の活性種を生成することが可能。CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成し、様々な材料の精密成膜、エッチング、表面改質ができます。φ100mmの酸化物、金属、樹脂等の成膜、表面改質に対応。ステージ加熟（Max500℃）、バイアス印加による高速高精度処理が容易となっております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特徴】 ○低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置 ○CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適 ○低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、 プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができる ○高密度の活性種を生成することが可能 ○CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成 ○様々な材料の精密成膜、エッチング、表面改質が可能 ○φ100mmの酸化物、金属、樹脂等の成膜、表面改質に対応 ○ステージ加熟（Max500℃）、バイアス印加による 高速高精度処理が容易 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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用途／実績例
【用途】 ○高速窒化処理（難窒化材にも適用可） ○機能性膜（BN膜 等） ○酸化膜エッチング ○カーボン膜（DLC、ダイヤモンド膜） ○ナノカーボン膜（CNT，CNW） ○Si膜 ○酸化膜 他 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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企業情報
KKEは平成三年創立以来、今日まで皆様方の御厚い御支援、御協力を賜り厚く御礼を申し上げます。創立以前は私自身が技術業務に専念しておりました。その当時の学んだ事を糧にKKEは皆様と共に育って参りました。特に規格商品を持たず真空技術分野の「開発、設計、製造」を中心に手掛け、時には「産、官、学」共に御協力させて戴き大変喜ばしい事と存じます。お客様個別の仕様内容に応じ「開発、設計、製造」に最後まで取り組む姿勢を持って御客様のニーズに対し適確な判断の下で今日まで進んで参りました。21世紀の最先端科学技術に対応できる技術、開発指向型の企業を目指し「物創り」で社会に貢献することによって皆様方と共に幸福となるように努力致します。今後ともKKEを宜しくお願い致します。