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タニムラ NVR・残留イオン防止 クリアーニトリル手袋 MS-CGR

最終更新日:2018年05月15日

タニムラ株式会社
タニムラ株式会社
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溶剤ワイピング時の非揮発性残留物の低減/クリーンルームclass100対応

ソフトで柔らかく手にフィットする 一般的にニトリル手袋はラテックスゴム手袋に比べて堅くフィット感が無く、グリップ力もあまりありません。 これは、ラテックス手袋とニトリル手袋を比較するときに現れる大きな問題点でした。 特にインナー手袋と併用して作業を行う際にその違和感が顕著に現れます。 本製品は一般のニトリル手袋よりも「伸縮性」と「グリップ性能」が非常に優れた製品です。 手にしっかりとフィットしてグリップ力が強いため、インナー手袋併用でも精密作業をこなす事ができます。

    その他クリーンルーム用機器・設備作業用手袋
glove_01.jpg

タニムラ NVR・残留イオン防止クリアーニトリル手袋MS-CGR

glove_01.jpg
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基本情報

NVR(非揮発性残留物・残渣)および残留イオンを低減する 一般的なニトリル手袋の問題点は・・・ 粉塵粒子の発生 (パーティクル) 有機系アウトガスの発生 (有機系ガス) NVR非揮発性残留物・残渣 陽イオン・陰イオンの残留 (特に陰イオン) 中でも近年問題になっているのがNVR非揮発性残留物です。 ハードディスク(HDD)や電子部品・機器に対する溶剤ワイピング作業(拭き取り作業)などの過程で、一般的に使用される脱イオン水やイソプロピルアルコール、ヘキサンなどの薬品に触れることによりニトリル手袋から溶出します。 これをを防止するには、本製品クリアーグローブを使用します。 クリアーグローブはNVR溶出を大幅に低減した超高性能クリーンルーム用手袋です。

価格帯

1万円 ~ 10万円

納期

~ 1週間

用途/実績例

●クリーンルーム内で使い捨て手袋を使用する時。 ●ハードディスクなどの溶剤ワイピング行程。 ●半導体製造工場・TFT/LCDなどの電子部品製造工程。 ●粉塵が発生してはいけない場所での使用。 ●天然ゴムアレルギーを防止したいとき。 ●有機系アウトガス発生の防止 ●陽イオン・陰イオンの残留防止 ●NVR非揮発性残留物・残渣の防止

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