洗浄後に水染み等を確実に排除し、短時間の仕上げを実行します。
ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる「水」の大半は比重分離により装置外へ取り出されます。 HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分は「水分除去装置」により、装置外へ確実に取り除きます。 付着した大量の“水”はHFE液面に急速に浮上します。 【特徴】 ○乾燥に必要なエネルギー消費量が大幅に削減 ○洗浄スピードが向上 ○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【HFE溶剤による水切り・乾燥のメカニズム】 (1)洗浄されたガラス基板は水を付着したまま、HFE溶剤中に浸漬 (2)ガラス基板に付着した水は超音波の作用と純水と溶剤との密度差 により、簡単にガラス基板から剥離され、HFE液面に急浮上 (3)HFE液面に浮上した水は、HFE液面から水分離槽へ (4)ガラス基板はHFE溶剤から引き上げられ、HFE溶剤の蒸気中で蒸気洗浄 (5)ガラス基板は乾燥層へ。ガラス基板に付着したHFE溶剤を除去 (6)乾燥完了 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
大川興産株式会社が重要視しておりますテーマは３つの“R”です。 ◆Ｒ１-リサイクル（低ランニングコスト） 浄工程で使用します全ての溶剤を回収し、洗浄システムに戻します。 ◆Ｒ２−リペヤー（安定した生産） 敏速な保守・点検の対応を常に心がけております。 定期メンテナンスをお勧めしております。 製造工程のダウンタイムを防止します。 ◆Ｒ３−リダクション（エコ化の推進） 洗浄装置に係るエネルギー量と溶剤消費を削減します。