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最終更新日:2025年11月14日

大川興産株式会社 本社
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比重差で“水”を浮かせるHFE乾燥の新基準。『3つのゼロ』で品質を決める――― それが私たちの仕事です。

従来のIPA乾燥や温風乾燥で課題となっていた「水染みゼロ」  「乾燥ムラゼロ」「引火リスクゼロ」を実現。 弊社独自の水分除去装置により、HFE溶剤中の微量水分を常時  管理し、乾燥品質を安定化させます。 ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる水の  大半は、比重分離により装置外へ排出されます。 HFE溶剤に溶け込んだ微量水分も、水分除去装置によって確実  に除去します。 HFE溶剤による水切り・乾燥システムは、洗浄後のガラスや  金属製品に付着した水を比重差と超音波作用で素早く分離し、 水染みを完全に防止します。 ガラス・レンズ・金属部品などの精密乾燥工程で、安全・    省エネ・量産対応を実現します。 【特徴】  ○ IPAを使用しないため、引火・安全面のリスクを回避  ○ 乾燥に必要なエネルギー消費量を大幅削減→CO₂排出抑制  ○洗浄スピード向上により量産ラインにも対応  ○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く  ○ 微量水分を常時除去する「水分除去装置(オプション)」   により水染み“ゼロ”を維持

    乾燥機器その他洗浄機
水切り乾燥装置.png

洗浄&乾燥装置 「レンズ・ガラス基板の水切洗浄・乾燥システム」

水切り乾燥装置.png
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基本情報

【HFE溶剤による水切り・乾燥のメカニズム】  1.洗浄後のワークを水分付着のままHFE溶剤槽へ浸漬。  2.超音波の作用と水との比重差により水分を素早く分離。  3.浮上した水は水分離槽を経て自動的に装置外へ排出。  4.ワークはHFE蒸気層で蒸気洗浄(仕上げ洗浄)され、乾燥層へ。  5.最終乾燥層にて完全乾燥。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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用途/実績例

実績溶剤例:AGC社製 AE-3100E 適用例  :光学レンズ、プリズム、ガラス基板、金属精密部品 など 詳しくはカタログをダウンロード、またはお問い合わせください。

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    洗浄の流れ。拡大版はHPをご確認ください。

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洗浄と乾燥の装置 「レンズ・ガラス基板の水洗浄と乾燥システム」

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弊社は創業以来、フッ素系洗浄装置メーカーとして業界を リードしてまいりました。 フッ素系溶剤の特性を活かした洗浄・乾燥システムに加え、 独自開発の溶剤回収機により純度99%以上の再生を実現し、 溶剤使用量の削減に貢献しています。 当社が最も力を注いでいるテーマは、以下の3つです。 1⃣ 溶剤消耗量の削減:  独自の廃液回収装置「OK-GREEN1(特許出願済)」により、  正確な溶剤管理と投資判断支援を実現。 2⃣ 敏速な保守・点検:  年間定期点検を通じて迅速・安価・確実なメンテナンスの提供。 3⃣ 正確な情報提供:  溶剤メーカーと連携し、10年先を見据えた最適な洗浄提案実施。 フッ素系溶剤だけでなく、炭化水素系・水系溶剤を用いた装置も 手掛けており、「環境・安全・品質」の三位一体を軸にお客様の ご要望に応じた最適な洗浄システムの開発に取り組んで参ります。

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