新製品の開発期間を大幅に短縮！ナノインプリントの量産を承ります！
ナノインプリント技術のみでは、量産を実現することは出来ません。当社では、実用化に必要となる周辺技術との融合を進め、 独自の超微細加工ファウンドリプラットフォームを構築しました。本ファウンドリサービスをご活用いただくことにより新製品 の開発期間を大幅に短縮することが可能になります。
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基本情報
【SCIVAXのナノインプリント技術】 ・大面積一括ナノインプリント 最大G5.0(1,100mmX1,300mm)基板への一括成型が可能 ・マルチナノインプリント 複数の基板への一括成型 ・うねりのある基板へのナノインプリント 化合物半導体基板他、フラットネスが担保されていない基板への一括成型 ・無機材料ナノインプリント SiO2他の材料への成型 ・曲面ナノインプリント レンズ表面をはじめとする曲面への成型
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企業情報
安価にナノサイズの微細加工を行うには、装置は勿論のこと、光学設計・金型・材料・ナノインプリント・エッチング・検査といった様々な要素技術が不可欠です。弊社は様々な分野の技術者を擁し、お客様が必要とする各要素技術の提供が可能です。 光学用途や電子用途などのお客様の様々なニーズに対して、一歩も二歩も踏み込んだトータルなサポートを行っております。微細加工、特にナノのウェハ加工をご検討の際は是非ご一報ください。
