多層膜、反射防止膜、ビームスプリッター、キャパシタ膜に
二酸化ケイ素 SiO2は、反射防止膜用、多層膜用、膜応力緩和用、自動連続給材用、 成形品、など様々な分野に応用可能です。 【特長】 ■外観・形状：透明〜白色・顆粒状・タブレット状・リング状 ■純度：99.9％以上 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【仕様】 ■分子式：SiO2 ■屈折率（at 550nm）：1.47 ■透過波長（nm）：200～10,000 ■融点(℃)：1710 (Softing) ■沸点(℃)：2227 ■密度(g/cm3)：2.2 ■蒸着ソース： EB，Ta ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
近年、光学部品に用いられる薄膜は、光学特性を満たすことのみならず、機械的特性、長期安定性、各種機能性の向上が求められております。SOLISではこのように多様化・高度化する光学部品の仕様に対応すべく日本のお客様と共に光学材料の開発を行って参りました。また、日本の協力会社様との強いネットワークを用いて高いレベルでの品質維持と、ユーザーの多岐にわたるニーズに対応してきた実績もございます。2014年3月に、これまで保有していた高いレベルの品質保証能力と、コストパフォーマンスの両立を目指して、中国工場（厦門晶力光電）を拡張し、製品の量産拠点と致しました。私たちSOLISはこれからも、お客様のあらゆるご要望にお応えできる努力を続け更なる発展のお手伝いをさせて頂く決意です。
