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CVD-SiC(化学蒸着法)「膜単体製造技術」

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最終更新日:2017年12月26日

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厳しい環境下で多数の実績!適応可能が幅広い膜単体製造技術

コーティング技術を応用し、緻密なSiC膜のみで構成された製品を提供いたします。 平板をはじめ、複雑形状まで幅広く適応可能です。 半導体製造装置を中心に、超高温やプラズマの厳しい環境下での数多くの実績があります。 【製造工程(例)】 1.黒鉛基材を円板状に加工 2.全面にCVD-SiCコーティング 3.外周加工により基材を露出 4.高温酸化雰囲気中で基材除去 5.2枚の膜単体円板となる 6.研削/研磨・面取り・洗浄・検査 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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CVD-SiC(化学蒸着法)「膜単体製造技術」

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株式会社フェローテックホールディングスは、「装置関連事業」「太陽電池関連事業」「電子デバイス事業」という製品用途と市場分野に応じた3つの事業セグメントで積極的な事業活動を展開しています。新エネルギー産業およびエレクトロニクス産業では、高品質な製品やサービスを提案し、コスト競争力のある製品やサービスを提供しております。また、地球環境に配慮した活動を積極的に推進することを経営上の重要課題の一つとしており、最新の環境規制要求への適応を順次進め、新エネルギー産業で活用できる素材・製品などを開発し、地球環境問題の解決に貢献しています。株式会社フェローテックホールディングスは、コア技術を活用したものづくりを通して社会に貢献し、顧客、株主、社員、取引先、地域社会などステークホールダーの方々が成長する楽しみを持てる企業であり続けます。

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