400LPIの銅メッシュ（メッシュ間隔：63.5μm）の分析結果を掲載しております！
当事例集では、400LPIの銅メッシュ（メッシュ間隔：63.5μm）を マイクロESCA（Quantum-2000）により分析した結果を紹介しております。 二次電子像から分析視野を指定してその領域の銅の面分析を行った結果 二次電子像に対応した銅の分布が得られ、さらにこのデータから測長機能を 利用してメッシュ間距離などを測ることができます。 【掲載概要】 ■マイクロESCAによる分析 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【掲載内容】 ■X線光電子分光分析（ESCA）の概要 ■マイクロESCAによる400LPIの銅メッシュ（メッシュ間隔：63.5μm）の分析 ■分析結果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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イオンテクノセンターは「イオン注入」「物理分析」および研究開発におけるコンサルティングや技術開発サポートなどを行うプロフェッショナル集団です。 最先端の技術と設備を備えた時代の求める創造的ラボラトリーとして企業や大学研究者の方々の良きパートナーをめざしています。
