真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
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基本情報
最小分解能：50nm or 100nm 最大移動速度：2mm/sec（FC-411 or FC-111使用時） ストローク：5mm or 10mm 対応コントローラ：FC-411 or FC-111 対応真空度：10^-4 Pa ■詳細は資料請求またはカタログをダウンロードして下さい■
価格情報
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納期
用途／実績例
フィードバックステージシステムは近年様々な分野で使用されています。 代表的な使用分野は情報通信関連・光関連・半導体関連・バイオ関連などになります。 例）MEMSの検査時の位置決め 光学系のディレイステージ 顕微鏡ステージ
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企業情報
シグマ光機グループは、グローバルブランド『OptoSigma』の名の下、国内外のマーケットに対して 「光ソリューション・カンパニー」としての使命、そして「感謝」「挑戦」「創出」の気持ちを胸に、 さらに積極的に事業を展開し継続的な成長を果たすべく全社一丸となって挑戦してまいります。 今後とも、真の「ものづくり」を追求するシグマ光機グループに、皆様のご理解とご支援を賜りますよう、心よりお願い申し上げます。
