真空中で使える リニアエンコーダによる5nm分解能の高性能位置決めステージ
位置決めステージにアウトガス対策を施してあるため、真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
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基本情報
○5相ステッピングモータ、カップリング、ボールねじ、 リニアスケールを内蔵していながら薄型で軽量な設計を実現 ○フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能 ○テーブルサイズ：60mm×60mm ○テーブル移動量：20mm ○繰返し位置決め精度：±10nm ○対応真空度：10^-４Pa ○最小分解能：5nm ○最大移動速度：２mm/sec ○対応コントローラ：FC-611
価格帯
納期
用途／実績例
走査型電子顕微鏡 X線利用技術 超微細加工 精密な位置決めや再現が必要な検査装置や 実験機などに利用されています。
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企業情報
シグマ光機グループは、グローバルブランド『OptoSigma』の名の下、国内外のマーケットに対して 「光ソリューション・カンパニー」としての使命、そして「感謝」「挑戦」「創出」の気持ちを胸に、 さらに積極的に事業を展開し継続的な成長を果たすべく全社一丸となって挑戦してまいります。 今後とも、真の「ものづくり」を追求するシグマ光機グループに、皆様のご理解とご支援を賜りますよう、心よりお願い申し上げます。
