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大気圧薄膜形成装置TEOS+O3-100

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最終更新日:2017年01月16日

株式会社魁半導体
株式会社魁半導体
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室温・大気圧環境でガラス薄膜を形成!

室温、大気圧環境でガラス薄膜の形成が可能となりました。 携帯電話の保護フィルムからガラスまで、幅広い対象物へ処理可能です。 少ない塗料でも効率のいい塗装も可能!

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大気圧薄膜形成装置TEOS+O3-100

薄膜装置.png
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基本情報

装置名:TEOS+O3-100 薄膜形成方法:ESC(Electro Spray Coating)法により薬液を噴霧、オゾン雰囲気下での重合反応によりガラス系薄膜を形成。 ESC法の特徴:高電圧を印加した注射針の先から塗料や薬液を供給することで、液体が電荷を持つ微細な液滴(霧)となり、対向電極(被処理物)に向けて飛行し、薄く・均一な膜が形成できる。少ない塗料でも効率の良い塗装が行える。

価格帯

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用途/実績例

・ガラス代替ポリカへの保護膜形成 ・携帯電話の画面保護フィルム ・親水コーティング ・塗装、印刷、コーティングの前処理コーティング

企業情報

株式会社魁半導体

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魁半導体は2002年9月に京都工芸繊維大学発のベンチャー企業として設立。プラズマ技術を用いた表面改質装置や堆積装置の販売をおこなっている。2010年に発売した粉体プラズマ装置は高い技術力が評価され『関西フロントランナー大賞』『中小企業技術賞』を受賞する。 全国の大学・産総研・大手メーカー・R&D部門で多数導入実績有り。 実物(デモ機)に触れて頂いてからの販売を提案します。 また、レンタル・リースにより、お客様のご負担を軽減したご使用方法も提案致します。 半導体関連以外にも、色々な技術相談を承っております。 また、石英やパイレックスの加工・販売を小ロットから承っております。 半導体関連以外にも、色々な技術相談を承っております。 また、石英やパイレックスの加工・販売を小ロットから承っております。

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