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『真空プラズマ照射装置』

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最終更新日:2017年06月13日

エステック株式会社
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細胞と接する面を細胞にやさしく表面改質!親水・疎水基の密度コントロール

『真空プラズマ照射装置』は、細胞と接する面を細胞にやさしく 表面改質する装置です。樹脂表面を親水化にも撥水化にも、自由自在に改質でき 最適な条件で処理が可能です。 様々な材料に対し、目的に最適なプラズマ照射条件を見出します。 また、受託処理も承っております。 【特長】 ■強力で均一な照射が可能で処理ムラがない ■エッチング効果が少なく、材料への物理的ダメージがほとんどない ■高密度の官能基が生成でき、接着剤を用いない直接接合が可能 ■官能基の退行が極めて少ない ■ガス使用量が極めて少ない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『真空プラズマ照射装置』

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【その他の特長】 ■小さいサンプルでも素早くプラズマ照射可能 ■プラズマ照射時に内部の様子や小さな変化も観察できる ■真空度、ガス流量、プラズマ電圧などの照射条件を自由に設定・調整可能 ■最適プラズマ照射条件を見出し、当社独自のノウハウを構築 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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