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半導体製造用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス

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最終更新日:2022年07月25日

モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
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シリコン半導体・SiCおよびGaN製パワー半導体製造プロセスに対応。高温、真空、腐食性ガス雰囲気中などで優れた性能を発揮。

パイロリティックボロンナイトライド(PBN)やタンタルカーバイドは高い耐熱性や耐腐食性を有し、 急速昇降温・超高温を容易に実現できるセラミックスです。 PBNは色々な形状に蒸着製造または加工が可能。 超高温ヒータや高温静電チャック、グラファイト保護コーティングもございます。 PBN機能部品は有機ELの製造プロセス、半導体単結晶成長プロセス、 その他の高温真空プロセスなどの改善に貢献します。 【特長】 ■12インチウェハ(300mmウェハ)にも対応 ■超高真空・高温(1700℃※)条件で使用できる ■高温下でも高い電気絶縁性を維持できる ■靭性があるため割れにくい ■化学的に安定 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

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半導体製造用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス

スクリーンショット 2021-08-18 140845.png
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高性能ヒータおよび静電チャック 用途 ・急速昇降温によるウェハ熱処理 ・窒化物半導体の成膜 ・PVD (スパッタ、MBE、蒸着など) ・イオン注入 ・ガラス加熱 ・真空中での高温加熱 PBN(超高純度窒化ホウ素)部品 用途 ・真空蒸着用ルツボ ・結晶成長用ルツボ ・反応・焼成用容器 ・高温での電気絶縁部品 ・高温腐食性雰囲気での部品 グラファイト保護コーティング 用途 ・超高温用ヒータ ・窒化物半導体成膜用部品 ・ウェハトレイ ・高温用歯車 ・SiC半導体結晶成長および成膜用部品

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モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社は、高熱伝導ヒートシンク、ヒータ/静電チャック、セラミックス製品、耐腐食/耐熱コーティングの開発、製造、販売を行っています。また、石英製品やシリコーン製品なども多数取り扱っております。ご用命の際には、お気軽にお問い合わせ下さい。

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