部品等の精密洗浄用途に好適なオゾン水生成装置！小型でありながら大流量かつ安定的にオゾン水が使用できます！
部品等の精密洗浄用途に好適なオゾン水生成装置です。 小型でありながら大流量かつ安定的にオゾン水が使用できます。 【特長】 ■循環方式採用：溜まり水・捨て水が極めて少ない 濃度の立ち上がりが早い（1分でオゾン水を生成） 洗浄プロセスでのオゾン水濃度・流量が安定 ■メタルフリーオゾン水：独自技術により半導体洗浄に適したオゾン水を生成 ■小型・軽量・冷却水不要：外寸611Ｗ×590Ｄ×1317Ｈ、重量約87ｋｇ 冷却用ラジエータを搭載 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
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基本情報
【仕様】一部抜粋 ■冷却方式：ラジエータ循環水冷方式 ■オゾン水濃度測定：内臓 紫外線オゾン水濃度計 ■消費電力：1ｋｗ ※詳しくはお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
半導体製造などの工場で使用されます。 半導体洗浄の分野では、有機物除去や金属除去に効果があるオゾン水濃度として20ppmがよく用いられております。 半導体のレジスト剥離という用途の場合には、100ppm以上のオゾン水が用いられることもあります。 ※詳しくはお問い合わせください。
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企業情報
21世紀の科学技術を担う私たちにとって循環型産業構造の構築は最重要課題です。 当社はこの課題に向けての新技術開発の支援をモットーといたします。 特にそのためのキーテクノロジーと目されるオゾン利用技術の技術的基盤を高めるため、低価格且つ高性能のオゾン発生装置をオゾン利用の現場へ供給致します。また、オゾン利用技術情報を蓄積し、情報面における普及、開発支援もいたします。
