回折限界を超えた解像度を実現！低コストで周期構造を作製できる露光システム
『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製が行えます。 【特長】 ■300nmピッチ以下の高解像度300nmピッチ以下の高解像度 ■DUV光源選択で150nmピッチを実現 ■全面露光 ■ノンコンタクト：マスクをダメージやコンタミネーションから保護 ■事実上無制限の深さ方向フォーカス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■非平坦基板に向く（例：エピウェハ） ■高均一性 ■オーバーレイアラインメント能力 ■一般的なフォトレジストや材料が利用可能 ■コンベンショナルなマスクが利用可能(クロムオングラス) ■マスクに対して最大2倍の分解能のパターニングを実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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あっというまに変化する情報化社会に寸時に対応できる会社、 それが協同インターナショナル。会社創立以来50年経ちました。 そして新たな挑戦！益々強く、荒々しく困難に立ち向かっていきます。 これからもよろしくお願いいたします。
