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最終更新日:2017年10月19日

株式会社フェムテック
株式会社フェムテック
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スラリー同時噴射で加工パワーの大幅アップを実現する洗浄機!

『炭酸ガス ドライステーション』は、洗浄目的・基板材質に合わせて、 ノズル番手選択する事による最適なパフォーマンスを提供する洗浄機です。 ノズル番手を変更することにより、CO2粒径の可変やCO2密度の可変、 CO2噴出速度の可変を実現。 また、N2パージノズルを採用することにより、加工可能時間まで1/6以下に 短縮が可能です。 【特長】 ■スラリー同時噴射で加工パワーの大幅アップ ■各液体不活性GASの同時噴射にて静電気破壊を防止 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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洗浄機『炭酸ガス ドライステーション』

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基本情報

【洗浄アプリケーション】 ■GaAs,Fe-RAM,GMR-Head等リフトオフ、エッチング後のバリ取り ■メタル種類:Pt,Ir等高高度貴金属系及びNiFe、Crなどの多層膜 ■有機,無機ELのITO上(EL素子成膜前)の有機、メタルパーティクルの除去 ■ダークスポットの除去 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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株式会社フェムテックでは、主に研磨技術装置や洗浄/アイスクリーン技術・ 装置を取り扱っております。 研磨技術と超精密洗浄技術、豊富な独自の技術資産と最新の要素技術を 融合し、半導体・電子デバイス業界に様々な装置や材料を提供します。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

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