太陽電池用シリコン基板の切削粉除去の洗浄データ公開中 超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し洗浄！
蒸気2流体洗浄ユニット「SSCシリーズ」は超音速噴射ノズルから蒸気と液体の流体を超音速で噴射し、対象物の表面にマイクロキャビテーションを発生させ洗浄を行います。蒸気に液体を混合することで2流体を作り、洗浄力を大幅に向上。金属汚染や微小異物の発生を抑えるために特殊な材料に表面コートを施し、高純度蒸気を発生させます。 本ページでは、太陽電池用シリコン基板の切削粉を除去処理した際のデータ資料を掲載しております。 【特長】 ■ブラシ等の消耗品がなく、ランニングコストを大幅に低減 ■使用するのは「純水」のみ ■化学薬品の使用量を大幅に削減 ■洗浄力を大幅に向上 ■半導体用洗浄にも使用 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【基本構成】 ○金属汚染のない蒸気発生装置 ○超音速蒸気噴射ノズル ○洗浄機本体との通信 【蒸気発生装置】 ○蒸気発生量：2～100kg/h ※必要な蒸気量に対応するサイズをご用意 ○用力：DIW、N2、CDA、200VACまたは100VAC ○蒸気圧力制御範囲：0.05-0.3MPa ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
価格情報
お問い合わせください。
納期
※お問い合わせください。
用途／実績例
【用途】 ○太陽電池の基板洗浄 ○LED製造における金膜剥離 ○半導体製造工程 ○ガラス基板の洗浄等 ○異物・ポリマー除去 ○油脂、指紋など除去 ○医療への応用 ○美容への応用 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
詳細情報
-
上記２流体洗浄事例 洗浄事例
-
コア技術 コア技術
カタログ（6）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
HUGパワー株式会社は、半導体で培った最先端洗浄技術をコアに産業用洗浄装置の開発・設計・販売を通して薬液使用量の削減、及び地球環境負荷の低減に貢献していきます。 これまで多くの方からの支援を受け、ようやく2009年から製品化の目途が立ち、量産ラインへの出荷が始まりました。現状は多くの有害な薬液を使用している洗浄工程を根本から変えたいという想いで、蒸気洗浄技術をメインに日々開発に力を注いでおります。
