研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフトチャンバー 活性炭フィルターのおよそ10倍の吸着性能
研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的として開発した 「どこでもドラフト」卓上型ガス除去装置 有機溶媒臭や刺激臭が発生する付近に「どこでもドラフト」を設置してください。 有機溶媒・ＶＯＣガス暴露のリスクを低減します。 特徴 強力な吸引力 優れたホルムアルデヒド除去性能 （活性炭フィルターのおよそ10倍以上の吸着性能です。ガスの種類によっては数十倍吸着致します。） 持ち運びが容易なコンパクト設計 どなたでも持ち運びが容易です。 化学吸着と物理吸着の両方を持ち合わせております。 ホルムアルデヒドの臭いも除去します。 重さ約5kgのコンパクト設計のため、女性でも好きな場所へ持ち運び作業エリアが確保できます。 小型ながら工夫された気流コントロールにより、効率的かつ強力にホルムアルデヒドを吸引除去します。 装置内に搭載されたホルムアルデヒド専用フィルターにより強力な除去性能を発揮します。 その他化学系・薬学系の化学薬品の暴露対策としても利用可能です。 作業環境のリスクアセスメントの対策を簡便に行えます。
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基本情報
どこでもドラフト 本体 型式:ＳＭＳＴ-ＤＤ 寸法:W210×D210×H350mm 最大風量:4.6m3(立米) 消費電力:28W(ACアダプター付属) 重量:約3.5kg 標準価格:１５８,０００円 どこでもドラフト交換用フィルター 型式:ＳＭＳＴ-ＤＤ-ＳＦ 寸法:W150×D150×H30mm 重量:約150g 標準価格:３8,０００円 使用例： HPLC装置使用時の有機溶媒臭 ガスクロマトグラフィーの排気VOC Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露 2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露 電子顕微鏡関連でのオスミウム/グルタルアルデヒド暴露 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/ＩＰＡ/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/ＴＨＦ/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他
価格情報
158,000 本体価格
価格帯
10万円 ~ 50万円
納期
2・3日
用途／実績例
使用例： HPLC装置使用時の有機溶媒臭 ガスクロマトグラフィーの排気VOC Isogen,TorizolなどのRNA抽出試薬によるフェノール暴露 2-ME(2-メルカプトエタノール)などの悪臭暴露 電子顕微鏡関連でのオスミウム・グルタルアルデヒド暴露 病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 （納入先での使用実績） フェノール・トルエン・キシレン・ベンゼン・ホルムアルデヒド・ＩＰＡ・へプタン・クロロホルム・アセトニトリル・アルコール・ＴＨＦ・ヘキサン・シクロヘキサン・アセトン・オスミウム・グルタルアルデヒド・酢酸・酢酸エチル・ジクロロメタン 他
ラインアップ（1）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| ＳＭＳＴ-ＤＤ-ＳＦ | どこでもドラフト交換用セラミックフィルター(2枚組) |
カタログ（1）
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企業情報
JIS規格のVGフランジ・VFフランジからNWフランジ（KFフランジ）・ICFフランジ（CFフランジ）・ISOフランジまで対応しております。標準規格品はほぼ全てを在庫しており、即納できる体制です。 各種真空機器や真空部品の図面作成から設計、追加工、据付調整まで対応致します。真空装置の仕様に適した真空フランジを選定し、ご要望に応じて追加工や設計といった応用を加えて、お客様のニーズに合った製品をご提供致します。 【取扱い製品】 HPLC, UHPLC, LC-MS, GC, GC-MS, 原子発光, 原子吸光, ICP-MS イオンクロマト, 光学顕微鏡, 蛍光顕微鏡, 電子顕微鏡(SEM, TEM) 蛍光X線装置, 工業用レーザー顕微鏡, AFM, STM, NMR 粘度計, 遠心分離機, 濃縮装置、凍結乾燥機、フリーザー、震盪機 CO2インキュベーター, フローサイトメーター, プレートリーダー PCR, リアルタイムPCR, 超純水装置, 自動化ロボット, など
