強力なプラズマ分子照射とヒータチャックを組み合わせることにより、通常のプラズマクリーナーでは除去することが難しい有機物等を除去。
特長 ●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理 ●ヒータステージ最高温度250℃ ●MFCによる各種ガス雰囲気制御（最大４系統） ●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない処理を実現 （CV200RFS） ●ストリップレート CV200RFS：最大7000Å/分 EcoClean：1.5～10μｍ/分
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特長 ●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理 ●ヒータステージ最高温度250℃ ●MFCによる各種ガス雰囲気制御（最大４系統） ●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない 処理を実現（CV200RFS） ●ストリップレート CV200RFS：最大7000Å/分 EcoClean：1.5～10μｍ/分
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納期
用途／実績例
特長 ●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理 ●ヒータステージ最高温度250℃ ●MFCによる各種ガス雰囲気制御（最大４系統） ●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない 処理を実現（CV200RFS） ●ストリップレート CV200RFS：最大7000Å/分 EcoClean：1.5～10μｍ/分
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