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フィードバックステージシステム総合カタログ(大気・真空)第5版

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最終更新日:2019年06月03日

シグマ光機株式会社
シグマ光機株式会社
  • 公式サイト

リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現!特注製作もOK

当社が設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置および 真空対応高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)の総合カタログです。 フィードバックステージ・フィードバックステージコントローラ、 ケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。 特注品・カスタム品の製作も承っております。お気軽にご相談ください。 【大気用システムの特徴】 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。 半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されています。 【真空対応システムの特徴】 創業以来、特注品の製作で得た真空対応に対するノウハウを元に 真空用途で高分解能及び高精度な再現性をご提供致します。 ※「PDFダウンロード」より総合カタログをご覧いただけます。  ご要望などお問い合わせフォームよりお気軽にご連絡ください。  また、下記リンクではカスタム品の製作例を紹介しております。

    その他FA機器
Toppage_FeedBackStageSystemCatalog[NO5].jpg

フィードバックステージシステム総合カタログ(大気・真空)第5版

Toppage_FeedBackStageSystemCatalog[NO5].jpg
Toppage_FeedBackStageSystemCatalog[NO5].jpg
  • 関連リンク - https://www.global-optosigma.com/jp/

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基本情報

◎大気用位置決め装置  自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自の  フィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、  高分解能・高い繰り返し再現性・高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◎真空対応システム  光学式リニアスケールを内蔵したフィードバックステージと、自社独自の  制御回路を搭載したフィードバックステージコントローラとの組合せにより、  真空内でのフルクローズドループ制御を実現しております。 ※詳しくはカタログをご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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用途/実績例

精密な位置決めが必要な研究、開発、検査 光学分野の研究用途 半導体描画装置の試料ステージ 顕微鏡ステージ

ラインアップ(9)

型番 概要
FS-1020UPX 20mmストローク、1nm分解能(内蔵スケール読み値)動作
FS-1020SPX 20mmストローク、5nm分解能(内蔵スケール読み値)動作
FS-1020PX 20mmストローク、10nm分解能(内蔵スケール読み値)動作
FS-1020X 20mmストローク、100nmまたは50nm分解能(内蔵スケール読み値)動作
FC-911 1nm分解能フィードバックステージコントローラ
FC-611 5nm分解能フィードバックステージコントローラ
FC-511 10nm分解能フィードバックステージコントローラ
FC-411 50nm分解能フィードバックステージコントローラ
FC-111 100nm分解能フィードバックステージコントローラ

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フィードバックステージシステム総合カタログ(大気・真空)第5版

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シグマ光機グループは、グローバルブランド『OptoSigma』の名の下、国内外のマーケットに対して 「光ソリューション・カンパニー」としての使命、そして「感謝」「挑戦」「創出」の気持ちを胸に、 さらに積極的に事業を展開し継続的な成長を果たすべく全社一丸となって挑戦してまいります。 今後とも、真の「ものづくり」を追求するシグマ光機グループに、皆様のご理解とご支援を賜りますよう、心よりお願い申し上げます。

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