豊富な開発経験とネットーワークによりお客様のご要望に最適な装置を開発いたします。
当社は産業用から研究開発応用まで幅広くＧＣＩＢ装置を開発製造してきたエンジニアを有し、お客様の様々なご要望に応じたＧＣＩＢ装置を提供いたします。 ＧＣＩＢによる加工法はＷＣやダイヤモンド等通常の研磨加工では難加工材と考えられている材料やフッ化物に代表される加工時に水を嫌う材料まで、サブナノレベルの平滑度に加工することが可能です。 当社のＧＣＩＢソースは大電流が取れることを特徴とし、SF6ガスクラスターで1mA(モノマーイオン換算で数A)の実績を有します。
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基本情報
【仕様ガス】 ・Ar, CO2, N2, SF6など 【イオンエネルギー】 ・10~40keV 【照射ビーム電流】 ・Ar>150μA, SF6>250μA ●詳しくはお問い合わせください。
価格帯
納期
※お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
・WC、ダイヤモンド等難加工材料の表面平滑化 ・GCIB援用薄膜形成 ・材料の表面改質
企業情報
当社はイオン及びガスクラスターイオンを用いた応用装置、主としてイオンビームスパッタ（IBS）装置及びガスクラスターイオンビーム（GCIB）装置に深い経験と実績を用いたメンバーで構成された会社です。それらの装置の開発・製造・販売・メンテナンスを行うと同時に同装置を用いたプロセスの立ち上げ加工処理を行います。