【CMP用テストウエハ】3D ILD Pattern wafer

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】 　Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、 　PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、 　Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系 　Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm、300mmにて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があります。 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 基本情報 【サービスについて】 当社では、製品の迅速な供給、安定供給、より安価での供給を目標に、 各種ご要望に応じたウェハの提供、販売をしております。 ■各種評価用パターンウェハ、成膜ウェハの販売 ■使用済みシリコンウェハの回収とリサイクル ■各種分析、解析の受託 アメリカ・ヨーロッパ・韓国・台湾などに優秀な調達先を有し、 お客様により良い品質のウェハを安定してご提供できるよう体勢を整えております。

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。

テストウェハとは、次世代半導体プロセス開発に必要な 装置・材料の評価用ウェハです。 半導体製造メーカーは日夜、新しいプロセス技術の開発を行い、 人々の生活が豊かになるよう奮闘をしています。 それを支えるのは材料メーカーや半導体装置メーカーであり、 次世代の技術の開発を行うために日々実験や研究を行っています。 そこでは、ウェハ上のプロセスの均一性を向上させるために、 実際のウェハを使用したデータ収集が必須です。 弊社では、次世代半導体開発の為のテストウェハをお客様の希望に沿う 『カスタムメイド』という形で製造し、販売いたしております。 テスト用ウェハの中でも特に、成膜、CMP、洗浄、エッチング、TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。