丈夫で耐久性に優れた“クロム”によるフォトマスク加工！
当社では、高精度のパターンを生成（1μm±0.1μm）できる フォトマスク技術『クロムマスク』加工を行っております。 高精度のため、円弧などのアナログ図形でも滑らかなパターンを生成可能。 大型・大判の基板（2000mm×2500mm）にも対応します。 また、丈夫で耐久性に優れるので、大量生産にもご利用頂けます。 【特長】 ■高精度のパターンを生成可能（1μm±0.1μm） ■円弧などのアナログ図形でも滑らかなパターンを生成可能 ■大型・大判の基板（2,000mm×2,500mm）にも対応 ■クロムは丈夫で耐久性もあり大量生産にも利用可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。
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【その他のフォトマスク技術】 ■エマルジョンマスク ■フィルムマスク ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社では、スパッタリングなどによる金属蒸着(クロム、金、銀、銅、 アルミニウムなどの真空蒸着メッキ )やフォトエッチング(薄膜エッチング)、 フォトマスク(クロムマスク、エマルジョンマスク、フィルムマスク)、 フィルム製品、ガラス加工など回路・基板・ウエハー成形、成膜薄膜加工、 ガラスエッチングなどの各種エッチングを行っております。 また、フォトマスクケース、高性能ヒーターなども オリジナル開発しています。