浸漬法、スプレー法に対応！苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時間：5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■対象物：ドライフィルム、ポジレジスト ■使用されている業界：電子工業 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
三若純薬研究所は、無機化学品の小分け・配合からスタートし、今では、 精密化学薬品などの受託製造販売、および、弊社オリジナルのレジスト剥離剤 や金属表面処理薬などを開発・製造しています。 私たちはこれまでも、そしてこれからも、安全第一、安定した高品質、 リーズナブルな価格設定、スピーディな対応を心がけ、「ものづくりの力」を 高めてまいります。